[实用新型]减反射膜及微型投影系统

说明书

本实用新型公开了一种减反射膜及微型投影系统，所述减反射膜包括基板、位于基板上的间接过渡层、及位于间接过渡层上的高低折射率膜层，所述高低折射率膜层包括若干交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述高折射率膜层的折射率大于或等于1.8，低折射率膜层的折射率小于或等于1.5，间接过渡层的折射率大于低折射率膜层的折射率且小于基板的折射率。本实用新型的减反射膜通过间接过渡层和高低折射率膜层的设计，能够大大降低减反射膜的反射率，在450nm～630nm范围内的反射率能够0.1％以下，有效控制了由反射率过高引起的杂光、鬼影、成像昏暗等问题，提高了光透过效率。

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，特别是涉及一种减反射膜及微型投影系统。

背景技术

真空蒸镀法是一种物理气相沉积的真空镀膜技术，真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。它是将蒸镀的材料置于一个坩埚之中，通过对坩埚的加热，使坩埚内材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子，然后凝聚到待镀膜的基板表面形成薄膜，该技术广泛应用于光学镜片镀膜、光通讯、太阳能电池及液晶显示等领域。

减反射膜属于常见光学镀膜的一种，但一般减反射膜在可见光段的反射率为0.5％～2％，像一般眼镜的薄膜其可见光段反射率为2％左右，成像镜头组的反射率在1％左右。1％左右的反射率会产生杂光、鬼影、成像昏暗等问题。

微型投影镜头组内部空间狭小，光路结构复杂，对于杂光、鬼影等现象更加敏感，镜片反射率偏高后更加影响视觉效果。

因此，针对上述技术问题，有必要提供一种减反射膜及微型投影系统。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种减反射膜及微型投影系统。

为了实现上述目的，本实用新型一实施例提供的技术方案如下：

一种减反射膜，所述减反射膜包括基板、位于基板上的间接过渡层、及位于间接过渡层上的高低折射率膜层，所述高低折射率膜层包括若干交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述高折射率膜层的折射率大于或等于1.8，低折射率膜层的折射率小于或等于1.5，间接过渡层的折射率大于低折射率膜层的折射率且小于基板的折射率。

第五低折射率膜层的厚度为100.97nm。

作为本实用新型的进一步改进，所述间接过渡层的材料为三氧化二铝，低折射率膜层的材料为二氟化镁或二氧化硅，高折射率膜层的材料为五氧化二钽、二氧化钛或二氧化锆。

第五低折射率膜层的厚度为100.97nm。

作为本实用新型的进一步改进，所述高低折射率膜层包括交替设置的第一低折射率膜层、第一高折射率膜层、第二低折射率膜层、第二高折射率膜层、第三低折射率膜层、第三高折射率膜层、第四低折射率膜层、第四高折射率膜层、第五低折射率膜层。

作为本实用新型的进一步改进，所述减反射膜中：

间接过渡层的厚度为9nm～11nm；

第一低折射率膜层的厚度为27nm～31nm；

第一高折射率膜层的厚度为13nm～15nm；

第二低折射率膜层的厚度为97nm～107nm；

第二高折射率膜层的厚度为6nm～8nm；

第三低折射率膜层的厚度为83nm～93nm；

第三高折射率膜层的厚度为37nm～41nm；