[实用新型]一种物理不可克隆函数电路及集成电路

权利要求书

1.一种物理不可克隆函数电路，其特征在于，包括至少两个串联光刻蚀结构和运算放大器；

所述串联光刻蚀结构包括相互串联的第一光刻蚀结构和第二光刻蚀结构，所述第一光刻蚀结构与所述第二光刻蚀结构之间形成有连接点；所述运算放大器的一输入端与一所述串联光刻蚀结构中所述连接点连接，所述运算放大器的另一输入端与另一所述串联光刻蚀结构中所述连接点连接；

所述第一光刻蚀结构包括沿水平方向分布且相互隔离的第一导体和第二导体，所述第一导体与所述第二导体均通过第一预设版图光刻蚀而成；所述第一预设版图包括对应第一导体的第一遮蔽图形，以及对应第二导体的第二遮蔽图形；所述第一遮蔽图形包括至少一个沿预设方向延伸的第一遮蔽指；

所述第二光刻蚀结构包括沿水平方向分布且相互隔离的第三导体和第四导体，所述第三导体与所述第四导体均通过第二预设版图光刻蚀而成；所述第二预设版图包括对应第三导体的第三遮蔽图形，以及对应第四导体的第四遮蔽图形；所述第二遮蔽图形包括至少一个沿预设方向延伸的第二遮蔽指。

2.根据权利要求1所述的物理不可克隆函数电路，其特征在于，所述第一遮蔽图形包括多个第一遮蔽指，所述第一遮蔽指的长度值均相同；所述第三遮蔽图形包括多个第二遮蔽指，所述第二遮蔽指的长度值均相同。

3.根据权利要求2所述的物理不可克隆函数电路，其特征在于，所述第一遮蔽图形与所述第二遮蔽图形之间具有第一间隙，所述第一间隙的任一处宽度值均相同；所述第三遮蔽图形与所述第四遮蔽图形之间具有第二间隙，所述第二间隙的任一处宽度值均相同。

4.根据权利要求3所述的物理不可克隆函数电路，其特征在于，所述第一遮蔽指的长度值大于所述第一间隙的宽度值；所述第二遮蔽指的长度大于所述第二间隙的宽度值。

5.根据权利要求1至4任一项权利要求所述的物理不可克隆函数电路，其特征在于，所述第二遮蔽图形呈环形包围所述第一遮蔽图形，所述第一遮蔽图形包括一第一遮蔽块和至少两个沿不同方向延伸的所述第一遮蔽指，所述第一遮蔽指与所述第一遮蔽块相互接触。

6.根据权利要求5所述的物理不可克隆函数电路，其特征在于，所述第一遮蔽图形包括四个所述第一遮蔽指，所述第一遮蔽图形呈十字形。

7.根据权利要求1至4任一项权利要求所述的物理不可克隆函数电路，其特征在于，所述第三遮蔽图形包括一第二遮蔽块和至少两个沿同一方向延伸的所述第二遮蔽指，所述第二遮蔽指与所述第二遮蔽块相互接触。

8.根据权利要求7所述的物理不可克隆函数电路，其特征在于，所述第三遮蔽图形与所述第四遮蔽图形构成叉指状图形。

9.一种集成电路，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项权利要求所述的物理不可克隆函数电路。