[实用新型]平底半环电极触片及其加工装置有效

专利信息
申请号: 201921160534.5 申请日: 2019-07-23
公开(公告)号: CN210813498U 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 洪宇祥;张媛 申请(专利权)人: 上海华聆人工耳医疗科技有限公司
主分类号: A61N1/05 分类号: A61N1/05;B21D5/02
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 翁惠瑜
地址: 200436 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 平底 电极 及其 加工 装置
【说明书】:

本实用新型涉及一种平底半环电极触片及其加工装置,所述电极触片(1、4)上部设有开口端(2、5),两侧开口端内收,呈环抱状,该开口端的端面为平滑曲线形;所述加工装置包括片料冲压模具(7),该片料冲压模具(7)包括第一凸模(701)、第二凸模(702)、第三凸模(703)和第一凹模(704),所述第一凹模(704)分别与第一凸模(701)、第二凸模(702)和第三凸模(703)相配合,所述第一凸模(701)的横向截面的两端为平滑曲线形;所述曲线形为凹字形或凸字形。与现有技术相比,本实用新型具有注塑牢固、更加适配耳蜗的形状、不易产生扭转、保证了与耳蜗有较大的接触面积等优点。

技术领域

本实用新型涉及有源电刺激医疗器械领域和听觉植入领域,尤其是涉及一种平底半环电极触片及其加工装置。

背景技术

目前世界上所用的人工耳蜗电极阵列采用的触点有三种,一种是球形,另一种是环形,还有一种是片形。球形触点电极阵列暴露面积小,功耗大,刺激不充分。环形触点电极阵列是整圈刺激,暴露面积虽然大,但是它会引起听觉神经以外的神经产生兴奋,影响刺激目的。片形触点电极阵列暴露面积介于球形触点电极阵与环形触点电极阵列之间,且不是整圈刺激,刺激效果好,功耗小。现有技术采用片形触点阵列,其触点为圆弧形片,粘附在硅胶表面,没有倒扣,容易脱落,且底部是圆弧形,植入时方向性不好,容易产生扭转,达不到对近蜗轴方向激效的目的,影响刺激效果。

授权公布号为CN208756784U的专利公开了一种人工耳蜗微弯电极,该微弯电极的电极触点有两种包括:回勾形电极,其回勾处设置第一侧向孔和第二侧向孔,底部内侧通过第一焊点与刺激电极引线连接;U形电极,其U形两侧设置第三侧向孔和第四侧向孔,底部内侧通过第二焊点与刺激电极引线连接。这两种电极触点在保证合适的触点接触面积的基础上,使得电极触点与硅胶的注塑结合更加牢固。

但该专利公开的电极触点仍存在以下缺点:1、触点接触面积较小;2、不能适配耳蜗的形状。

实用新型内容

本实用新型的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供触点接触面积大且与硅胶注塑结合牢固的平底半环电极触片及其加工装置。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现:

一种平底半环电极触片,所述电极触片上部设有开口端,两侧开口端内收,呈环抱状,该开口端的端面为平滑曲线形。

进一步地,所述曲线形为凹字形或凸字形。

进一步地,所述凹字形包括依次连接的第一凸起、第一凹槽和第二凸起,所述第一凸起、第一凹槽和第二凸起的连接处均为平滑的曲面。

进一步地,所述凸字形包括中间凸起,该中间凸起与开口端边缘的连接处为平滑的曲面。

进一步地,所述电极触片的底面为平面。

本实施例提供一种用于制作所述平底半环电极触片的加工装置,包括片料冲压模具,所述片料冲压模具包括第一凸模、第二凸模、第三凸模和第一凹模,所述第一凹模分别与第一凸模、第二凸模和第三凸模相配合,所述第一凸模的横向截面的两端为平滑曲线形。

进一步地,所述曲线形为凹字形或凸字形。

进一步地,所述第一凸模的纵向截面为长方形,所述第二凸模的纵向截面为类长方形,该类长方形为长方形底面两脚为圆弧的形状。

进一步地,所述第三凸模的纵向截面为依次连接的长方形、连接段和类椭圆形,该类椭圆形为椭圆形的底面为平面的形状。

进一步地,所述第一凹模包括纵向主截面形状为圆柱形,且依次连接的第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽,所述三个凹槽圆柱形截面的直径依次减小,所述第一凹槽和第二凹槽的底面与侧面的连接处为平滑的曲面,所述第一凹槽分别与第一凸模和第二凸模相匹配,所述第二凹槽与第三凸模相匹配。

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