[实用新型]一种易清洗的温控反应釜

权利要求书

1.一种易清洗的温控反应釜，其特征在于，所述易清洗的温控反应釜包括：

釜体(1)，所述釜体(1)为向上开口的中空槽体，所述釜体(1)的底部安装有出料管(2)，所述出料管(2)上安装有出料阀门(3)；所述釜体(1)侧面为夹套结构(4)，所述夹套结构(4)依次为内壁(401)、温控片(402)、保温层(403)和外壁(404)，所述温控片(402)与控制面板电性连接，所述控制面板与电源电性连接；

釜盖(5)，所述釜盖(5)安装在所述釜体(1)的顶部并与所述釜体(1)转动连接，所述釜盖(5)上设置有进料口(6)；

搅拌装置(7)，所述搅拌装置(7)贯穿所述釜盖(5)并向下延伸，所述搅拌装置(7)包括搅拌电机(701)，所述搅拌电机(701)的输入端与控制面板电性连接，所述搅拌电机(701)的输出端与搅拌轴(702)传动连接，所述搅拌电机(701)安装在所述釜盖(5)上；所述搅拌轴(702)的末端可拆卸安装有搅拌叶片(703)，所述搅拌轴(702)内安装有气动阀门，所述气动阀门与搅拌电机(701)电性连接；

温度传感器(8)，所述温度传感器(8)安装在所述釜体(1)底部，所述温度传感器(8)与所述控制面板电性连接；

清洁毛刷，所述清洁毛刷包括毛刷本体(705)，所述毛刷本体(705)与支撑架(706)固定为一体，所述支撑架(706)与所述搅拌轴(702)的末端可拆卸连接。

2.根据权利要求1所述的一种易清洗的温控反应釜，其特征在于：所述搅拌叶片(703)上设置有导流片(704)。

3.根据权利要求1所述的一种易清洗的温控反应釜，其特征在于：所述毛刷本体(705)与所述釜体(1)的内壁(401)贴合。

4.根据权利要求1所述的一种易清洗的温控反应釜，其特征在于：所述釜体(1)和釜盖(5)之间设置有防腐密封环(9)。

5.根据权利要求1或4所述的一种易清洗的温控反应釜，其特征在于：所述釜体(1)上安装有压力表(10)；所述釜体(1)的侧面设置有液位观察窗(11)，所述液位观察窗(11)上设置有液位线。

6.根据权利要求1或4所述的一种易清洗的温控反应釜，其特征在于：所述釜盖(5)上安装有取样管(12)，所述取样管(12)为倒置的U型管，所述取样管(12)可上下移动。