[实用新型]清洁装置及数控设备有效

专利信息
申请号: 201921158458.4 申请日: 2019-07-19
公开(公告)号: CN210615940U 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 吕鹏 申请(专利权)人: 华勤通讯技术有限公司
主分类号: B23Q11/00 分类号: B23Q11/00
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;杨东明
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 清洁 装置 数控 设备
【权利要求书】:

1.一种清洁装置,用于清洁数控设备的切屑,所述数控设备包括主轴,其特征在于,所述清洁装置连接于所述主轴的侧部,所述清洁装置可输出线性往复运动以适应工作状态与非工作状态,且所述线性往复运动的运动轨迹与所述主轴的轴线平行。

2.如权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述清洁装置包括:

执行元件,所述执行元件设于所述主轴的侧部,所述执行元件包括输出端,所述输出端输出所述线性往复运动;和,

清洁模块,所述清洁模块设于所述输出端上。

3.如权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,所述执行元件为气缸或液压缸。

4.如权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,所述清洁模块包括设于所述输出端上的喷嘴。

5.如权利要求4所述的清洁装置,其特征在于,所述喷嘴用于连接外部的介质源,所述介质源的介质为气态或液态。

6.如权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,所述执行元件为气缸,所述清洁模块为吹气喷嘴。

7.如权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,所述清洁装置还包括连接件,所述连接件将所述执行元件可拆卸地连接至所述主轴上。

8.一种数控设备,其特征在于,所述数控设备包括如权利要求1-7任一项所述的清洁装置。

9.如权利要求8所述的数控设备,其特征在于,所述数控设备还包括设于所述主轴端部的刀具,并界定所述刀具的最低位置为参考基准;

清洁装置通过输出介质实现清洗,并界定所述清洁装置的输出介质的部分为输出部;

所述清洁装置在所述工作状态下,所述输出部低于所述参考基准;所述清洁装置在所述非工作状态,所述输出部的最低位置高于所述参考基准。

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