[实用新型]一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置

权利要求书

1.一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置，其特征在于：它包含底座(1)、保温体(2)、加热皿(3)、上盖(4)；

所述的底座(1)的前侧面上设有一号开关(1-1)，底座(1)的底部设有底板(1-2)，底板(1-2)上表面的左侧设有一号电路板(1-3)，底板(1-2)上表面的右侧设有直流电源(1-4)，一号开关(1-1)与直流电源(1-4)连接，底座(1)内部的顶端设有一号隔热层(1-5)，底座(1)的上方设有一号保温层(2-1)，一号保温层(2-1)的上方设有加热板(1-6)；

所述的保温体(2)还包含二号保温层(2-2)，一号保温层(2-1)的底部设于底座(1)的上方，二号保温层(2-2)设于一号保温层(2-1)的内部；

所述的加热皿(3)设于加热板(1-6)的上表面上，加热皿(3)的外侧面与二号保温层(2-2)抵触设置，加热皿(3)内部的底面上设有数个固定座(3-1)，固定座(3-1)中插设有固定架(3-2)，固定架(3-2)的顶端呈环形设置，加热皿(3)的上方设有上盖(4)；

上述的上盖(4)上表面的中心设有电机座(4-1)，电机座(4-1)中嵌设有电机(4-1-1)，电机(4-1-1)的输出端上套设有搅拌棒(4-3)，搅拌棒(4-3)的下端穿过上盖(4)的底板后，插设在加热皿(3)中，上盖(4)内部的左侧设有锂电池(4-4)，上盖(4)内部的右侧设有二号电路板(4-5)，二号电路板(4-5)与锂电池(4-4)连接，锂电池(4-4)的上方设有电池盖(4-4-1)，二号电路板(4-5)的上方设有盖板(4-5-1)，盖板(4-5-1)上设有二号开关(4-5-2)，二号开关(4-5-2)与二号电路板(4-5)连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置，其特征在于：所述的电机座(4-1)的上方设有提手(4-2)。

3.根据权利要求1所述的一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置，其特征在于：所述的加热皿(3)与上盖(4)之间夹设有密封圈(3-4)。

4.根据权利要求1所述的一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置，其特征在于：所述的搅拌棒(4-3)的下端设有外环(4-3-1)。

5.根据权利要求1所述的一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置，其特征在于：所述的上盖(4)上设有通气孔(4-6)，通气孔(4-6)中插设有气塞(4-6-1)。

6.根据权利要求1所述的一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置，其特征在于：所述的上盖(4)的底部贴设有二号隔热层(3-3)。