[实用新型]广域光学薄膜有效
| 申请号： | 201921122325.1 | 申请日： | 2019-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN210072115U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 高治国 | 申请（专利权）人： | 希比希光学(北京)有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 11255 北京市商泰律师事务所 | 代理人： | 孙洪波 |
| 地址： | 101400 北京市怀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 监控波长 本实用新型 光学薄膜 鬼影现象 第三层 第一层 广域 膜层 薄膜 成像 玻璃 | ||
【权利要求书】：
1.一种广域光学薄膜，其特征在于，包括：在玻璃上依次镀有4层不同材料的膜层，其中，第一层材料为H4，厚度为14.05-17.05，监控波长为530nm；第二层材料为MGF2，厚度为59.11-56.11nm，监控波长为530nm；第三层材料为H4，厚度为19.91-16.91nm，监控波长为600nm；第四层材料为MGF2，厚度为132.92-129.92nm，监控波长为410nm。
2.根据权利要求1所述的广域光学薄膜，其特征在于，所述的第一层材料的厚度为15.55nm。
3.根据权利要求1所述的广域光学薄膜，其特征在于，所述的第二层材料的厚度为57.61nm。
4.根据权利要求1所述的广域光学薄膜，其特征在于，所述的第三层材料的厚度为18.41nm。
5.根据权利要求1所述的广域光学薄膜，其特征在于，所述的第四层材料的厚度为131.42nm。
6.根据权利要求1所述的广域光学薄膜，其特征在于，所述的第二层材料为SIO2，厚度为39.08-36.08nm，监控波长为530nm。
7.根据权利要求6所述的广域光学薄膜，其特征在于，所述的第二层材料SIO2的厚度为37.58nm。
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