[实用新型]一种光触媒废气处理装置有效
申请号: | 201921121648.9 | 申请日: | 2019-07-17 |
公开(公告)号: | CN210613378U | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | 龚毅 | 申请(专利权)人: | 武汉晶诺纳米科技有限公司 |
主分类号: | B01D53/86 | 分类号: | B01D53/86;B01D53/00;B01D53/74;B01D46/10;B01D46/00 |
代理公司: | 武汉红观专利代理事务所(普通合伙) 42247 | 代理人: | 张文俊 |
地址: | 430000 湖北省武汉市江岸*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 触媒 废气 处理 装置 | ||
本实用新型公开了一种光触媒废气处理装置,涉及废气处理装置领域,包括箱体,所述箱体的一侧设置有进风口,且箱体远离进风口的一侧设置有出风口,所述箱体的一端设置有过滤室门,且箱体的一端位于过滤室门的一侧设置有净化室门,所述箱体的内部设置有滑轨,所述滑轨的内部连接有过滤框,且过滤框的顶端和底端转动连接有滚轮。本实用新型通过在过滤框的顶端和底端转动连接有多组滚轮,使得过滤框便于通过滑轨安装或拆卸,降低了清洗过滤机构的难度,提升了装置内的通风效率,通过设置有过滤框和过滤板,通过松开过滤板内部的螺栓,使得过滤板可以从过滤框内拆除,便于更换不同种类的过滤棉,提升了装置的实用性。
技术领域
本实用新型涉及废气处理装置领域,具体为一种光触媒废气处理装置。
背景技术
废气处理装置是对工业废气、生活废气或实验室废气进行处理的装置,光触媒废气处理装置是通过安装特制的UV光解灯管,使得紫外线对空气中携带的微生物进行杀菌处理,减轻了空气中的异味。
传统的光触媒废气处理装置未设置有便于安装或拆卸的过滤机构,当装置长时间使用时易附着大量杂质,降低了装置内的通风效率,由于不同种类的废气需通过不同种类的滤芯进行过滤,现有的光触媒废气处理装置未设置有便于更换滤芯的机构,使得装置的实用性较低,现有的光触媒废气处理装置未设置有便于更换光解灯管的机构,当灯管发生损坏时需关闭所有的光解灯管进行更换,因此在检修期间装置无法对废气进行净化,降低了装置的净化效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:为了解决传统的光触媒废气处理装置未设置有便于安装或拆卸的过滤机构,现有的光触媒废气处理装置未设置有便于更换滤芯的机构,现有的光触媒废气处理装置未设置有便于更换光解灯管的机构的问题,提供一种光触媒废气处理装置。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种光触媒废气处理装置,包括箱体,所述箱体的一侧设置有进风口,且箱体远离进风口的一侧设置有出风口,所述箱体的一端设置有过滤室门,且箱体的一端位于过滤室门的一侧设置有净化室门,所述箱体的内部设置有滑轨,所述滑轨的内部连接有过滤框,且过滤框的顶端和底端转动连接有滚轮,所述过滤框的内部设置有过滤棉,且过滤框的一侧位于过滤棉的一侧设置有过滤板,所述箱体的内部位于滑轨的一侧设置有分流板,且箱体内部的底端位于分流板的一侧设置有限位块,所述箱体的顶端设置有配电室,且配电室的内部连接有连接框,所述连接框的内部安装有UV光解灯管,且UV光解灯管的底端贯穿至箱体的内部并与限位块卡合连接,所述箱体的一端位于净化室门的顶端安装有带灯自锁按钮。
优选地,所述过滤室门与箱体通过门锁卡合连接,所述净化室门的数量为两组,两组所述净化室门通过门锁与箱体卡合连接。
优选地,所述滑轨的数量为六组,六组所述滑轨等距分布在箱体内部位于分流板的一侧。
优选地,所述过滤框与过滤板通过螺栓可拆卸连接,且过滤框与滑轨通过滚轮滑动连接。
优选地,所述连接框的数量为六组,六组所述连接框等距分布在配电室的内部,所述连接框的内部安装有四组UV光解灯管,六组所述带灯自锁按钮分别与六组所述连接框内安装的UV光解灯管电性连接。
优选地,所述带灯自锁按钮的数量为六组,六组所述带灯自锁按钮分别与六组所述连接框电性连接,且六组所述带灯自锁按钮并联。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过在过滤框的顶端和底端转动连接有多组滚轮,使得过滤框便于通过滑轨安装或拆卸,降低了清洗过滤机构的难度,提升了装置内的通风效率,通过设置有过滤框和过滤板,通过松开过滤板内部的螺栓,使得过滤板可以从过滤框内拆除,便于更换不同种类的过滤棉,提升了装置的实用性,通过设置有六组连接框和带灯自锁按钮,且六组带灯自锁按钮分别与六组连接框电性连接,当有灯管损坏时,通过关闭该组灯管相应的连接框和带灯自锁按钮,使得该组连接框内安装的灯管断电,使得装置在运行时可以对灯管进行更换,提升了装置的净化效率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉晶诺纳米科技有限公司,未经武汉晶诺纳米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921121648.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种臭氧加压反应装置
- 下一篇:一种纳米二氧化钛连续式生产装置