[实用新型]显示面板

说明书

本实用新型提供了一种显示面板，包括驱动背板、设置在所述驱动背板上的像素阵列、及设置在所述像素阵列的外侧并完全覆盖所述像素阵列的薄膜封装层，所述显示面板还包括设置在所述薄膜封装层的顶部的量子点、及设置在相邻两个量子点之间以避免所述像素阵列之间的光串扰的反射阵列。本实用新型的显示面板，可实现2000及更高像素密度的显示，并可防止像素阵列之间的光串扰。

技术领域

本实用新型涉及一种显示面板，尤其涉及一种高像素密度的显示面板。

背景技术

目前的OLED显示屏体大多采用蒸镀不同OLED材料实现OLED图形化，这种方法在像素密度低于700时是没有问题的，但是当像素密度高于800时，现有的制造技术将进入物理瓶颈。

因此，实现高像素密度的多彩显示，是目前急需解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种显示面板，其在相邻两个量子点之间设有反射阵列，可防止高分辨率显示面板的光串扰。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种显示面板，包括驱动背板、设置在所述驱动背板上的像素阵列、及设置在所述像素阵列的外侧并完全覆盖所述像素阵列的薄膜封装层，所述显示面板还包括设置在所述薄膜封装层的顶部的量子点、及设置在相邻两个量子点之间以避免所述像素阵列之间的光串扰的反射阵列。

作为本实用新型的进一步改进，所述薄膜封装层的顶部设有像素定义层，所述量子点设置在所述像素定义层内。

作为本实用新型的进一步改进，所述显示面板进一步包括设置在所述量子点的顶侧并覆盖所述量子点及像素定义层的绝缘保护层。

作为本实用新型的进一步改进，所述绝缘保护层的厚度是50nm。

作为本实用新型的进一步改进，所述反射阵列设置在所述绝缘保护层的外侧，所述反射阵列的厚度大于所述量子点的厚度，并在顶部及底部均超出所述量子点。

作为本实用新型的进一步改进，所述反射阵列的厚度为100nm。

作为本实用新型的进一步改进，所述显示面板进一步包括玻璃盖板，所述玻璃盖板完全覆盖所述反射阵列及所述绝缘保护层。

作为本实用新型的进一步改进，所述量子点包括可发出红光的红色量子点及可发出绿光的绿色量子点。

作为本实用新型的进一步改进，所述红色量子点与绿色量子点均采用电流体打印工艺形成。

作为本实用新型的进一步改进，所述像素阵列采用黄光和蚀刻工艺形成。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的显示面板通过在相邻两个量子点之间形成反射阵列，从而可防止高分辨率显示面板的光串扰，进一步采用黄光、刻蚀工艺实现高像素的显示面板图形化，突破了高像素密度的高精度金属掩膜板的物理极限，可实现2000及更高像素密度的显示。

附图说明

图1是符合本实用新型显示面板的驱动背板和发光基板键合前的示意图。

图2是图1所示的显示面板的驱动背板和发光基板键合后的示意图。

图3是移除图2中发光基板的衬底的示意图。

图4是在图3所示的显示面板上形成光阻层的示意图。

图5是在图4所示的显示面板上形成发光阵列及相应排布金属键合阵列的示意图。

图6是在图5所示的显示面板的发光阵列相应的金属键合阵列上形成绝缘层的示意图。

图7是在图6所示的显示面板的绝缘层上形成开口的示意图。

图8是在图7所示的显示面板的绝缘层上形成金属层的示意图。