[实用新型]一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统有效
申请号: | 201921056002.7 | 申请日: | 2019-07-08 |
公开(公告)号: | CN209731680U | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 郭成伟;陈浩;冯进忠 | 申请(专利权)人: | 成都奕康真空电子技术有限责任公司 |
主分类号: | H05H9/00 | 分类号: | H05H9/00;H05H7/22 |
代理公司: | 51267 成都为知盾专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 李汉强<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 610000 四川省成都市郫县成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电离室 信号处理模块 磁控管 调谐 处理算法 剂量率 加速管 伺服驱动系统 本实用新型 直线加速器 工业电子 控制器 电机 控制处理模块 控制器连接 电机连接 实时读取 数字成像 加速器 输出端 对准 清晰 检测 发现 | ||
本实用新型公开了一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统,其包括靶前电离室、加速管、磁控管、磁控管调谐电机、电离室信号处理模块、PID控制处理算法控制器、AFC控制处理模块、伺服驱动系统,所述电离室信号处理模块连接靶前电离室,所述PID控制处理算法控制器连接电离室信号处理模块并通过实时读取电离室信号处理模块内的剂量率数据,所述伺服驱动系统连接PID控制处理算法控制器和磁控管调谐电机,所述磁控管调谐电机连接加速管,所述加速管输出端对准靶前电离室。本实用新型可以更快速和稳定地稳定工业电子直线加速器的靶前剂量率,在加速器数字成像中能产生更清晰的工件内部照片,来检测以前不易发现的缺陷。
技术领域
本实用新型属于加速器技术领域,尤其是涉及了一种结构简单、加工难度低用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统。
背景技术
目前普遍工业电子直线加速器采用了AFC控制稳频的办法来稳定加速器输出剂量率.
但是发明人在长期的使用过程中发现这类技术至少存在以下技术问题:AFC频率控制最终测定的是微波频率,来间接稳定剂量率,并没有直接监控到加速器实际输出剂量率的稳定,所以实际效果并不好,在胶片成像的时候影响不大,由于目前X射线数字成像日趋成熟,AFC控制剂量率稳定性已经远不能达到数字成像对剂量率稳定性的要求。
实用新型内容
为克服上述存在之不足,本实用新型的发明人通过长期的探索尝试以及多次的实验和努力,不断改革与创新,提供一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统,主要用于提高电子直线加速器剂量率稳定性,从而提高数字成像的稳定性。
为实现上述目的本实用新型所采用的技术方案是:一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统,其包括靶前电离室、加速管、磁控管、磁控管调谐电机、电离室信号处理模块、PID控制处理算法控制器、AFC控制处理模块、伺服驱动系统,所述电离室信号处理模块连接靶前电离室,所述PID控制处理算法控制器连接电离室信号处理模块并通过实时读取电离室信号处理模块内的剂量率数据,所述伺服驱动系统连接PID控制处理算法控制器和磁控管调谐电机,所述磁控管调谐电机连接加速管,所述加速管输出端对准靶前电离室。
根据本实用新型中所述的一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统,其进一步地优选技术方案是:PID控制处理算法控制器和伺服驱动系统之间还连接有AFC控制处理模块。
根据本实用新型中所述的一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统,其进一步地优选技术方案是:所述PID控制处理算法控制器按照系统设定的参数实时计算调谐电机的最优位置,并且发给伺服驱动系统。
根据本实用新型中所述的一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统,其进一步地优选技术方案是:伺服驱动系统实时旋转电机到最优位置,稳定剂量率。
本实用新型的有益效果是:可以更快速和稳定地稳定工业电子直线加速器的靶前剂量率,在加速器数字成像中能产生更清晰的工件内部照片,来检测以前不易发现的缺陷。
同时本实用新型整体结构简单、容易实现、具有较强的实用价值和市场前景。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1是本实用新型结构原理示意图。
图中标号分别为:1、靶前电离室;2、加速管;3、磁控管;4、磁控管调谐电机;5、电离室信号处理模块;6、PID控制处理算法控制器;7、AFC控制处理模块;8、伺服驱动系统。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都奕康真空电子技术有限责任公司,未经成都奕康真空电子技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921056002.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型射频电子加速器结构
- 下一篇:一种抗拉拔插片及其安装结构