[实用新型]一种高分子纳米修复记忆胶制备装置

权利要求书

1.一种高分子纳米修复记忆胶制备装置，其特征在于：包括支撑架(1)、混料装置(2)、中转罐(3)、真空反应釜(6)以及主控制器(7)；

所述混料装置(2)固定设置在支撑架(1)的上端；

所述中转罐(3)设置在支撑架(1)上部的上端，混料装置(2)与中转罐(3)通过导管一(4)连接；

所述真空反应釜(6)设置在支撑架(1)内部；

所述中转罐(3)与真空反应釜(6)连通；

所述主控制器(7)设置在真空反应釜(6)的外侧。

2.根据权利要求1所述的一种高分子纳米修复记忆胶制备装置，其特征在于：

所述混料装置(2)包括料桶(21)、进料管(22)、搅拌电机一(23)、搅拌棒一(24)、支撑杆一(25)；

所述支撑杆一(25)下部固定在支撑架(1)的上端，支撑杆一(25)上端固定料桶(21)；

所述料桶(21)上端一侧设置有进料管(22)；

所述搅拌电机一(23)设置在料桶(21)上部中间位置，搅拌电机一(23)的导杆插入料桶(21)并与搅拌棒一(24)连接。

3.根据权利要求2所述的一种高分子纳米修复记忆胶制备装置，其特征在于：

所述料桶(21)下部与导管一(4)连接，导管一(4)上设置有输液泵(5)，导管一(4)的另一端插入中转罐(3)中。

4.根据权利要求1所述的一种高分子纳米修复记忆胶制备装置，其特征在于：

所述中转罐(3)下部设有开启阀(31)、导管二(32)；

所述开启阀(31)与时间控制器(8)电连接；

所述中转罐(3)与真空反应釜(6)通过导管二(32)连接。

5.根据权利要求1所述的一种高分子纳米修复记忆胶制备装置，其特征在于：

所述真空反应釜(6)包括搅拌电机二(61)、真空控制器(62)、加热板(63)、温度计(64)、搅拌棒二(65)、出料口(66)、支撑杆二(67)；

所述支撑杆二(67)的下部固定在支撑架(1)下部，支撑杆二(67)上端固定支撑真空反应釜(6)；

所述搅拌电机二(61)设置在真空反应釜(6)的顶部中间位置，搅拌电机二(61)的导杆插入真空反应釜(6)并与搅拌棒二(65)连接；

所述真空控制器(62)设置在真空反应釜(6)的上部；

所述加热板(63)设置在真空反应釜的内壁；

所述温度计(64)设置在真空反应釜(6)的外侧，温度计(64)的探头部位插入真空反应釜(6)；

所述真空反应釜(6)底部设有出料口(66)。

6.根据权利要求5所述的一种高分子纳米修复记忆胶制备装置，其特征在于：

所述出料口(66)下外接输胶管(9)。

7.根据权利要求1所述的一种高分子纳米修复记忆胶制备装置，其特征在于：

所述主控制器(7)分别与时间控制器(8)、真空控制器(62)、加热板(63)、出料口(66)、搅拌电机一(23)以及搅拌电机二(61)电连接。