[实用新型]陶瓷加工用釉面抛光装置

权利要求书

1.一种陶瓷加工用釉面抛光装置，包括底座、支撑架、夹持机构、旋转机构、抛光机构和升降机构，其特征在于，所述支撑架安装在所述底座上，所述夹持机构安装在所述底座上，所述旋转机构安装在所述底座的下端，所述升降机构安装在所述支撑架上，所述升降机构安装在所述旋转机构的上端，所述抛光机构安装在所述升降机构上，其中；

所述支撑架上设有固定板，所述升降机构安装在所述固定板上，所述升降机构包括升降气缸、第一安装板和第二安装板，所述升降气缸安装在所述固定板上，所述第一安装板安装在所述升降气缸下端，所述第二安装板安装在所述第一安装板的下端，所述第一安装板与第二安装板之间通过连接杆连接；

所述抛光机构安装在所述第二安装板的下端，所述抛光机构包括抛光电机、导向辊、砂布和移动辊，所述抛光电机安装在所述第二安装板的下端，所述抛光电机的下端设有驱动辊，所述导向辊通过第一固定杆安装在所述第二安装板的下端面上，所述移动辊通过第二固定杆安装在所述第二安装板的下端，所述砂布围绕在所述驱动辊、导向辊和移动辊上；

所述旋转机构安装在所述抛光机构的下端，所述旋转机构包括旋转电机和旋转盘，所述旋转电机安装在所述底座中，所述旋转盘安装在所述旋转电机上，所述旋转盘设置在所述驱动辊、导向辊和移动辊的中间下端；

所述夹持机构设置在所述旋转机构的两端，所述夹持机构包括夹持气缸、固定块和匹配块，所述固定块安装在所述夹持气缸上，所述匹配块安装在所述固定块上。

2.根据权利要求1所述的陶瓷加工用釉面抛光装置，其特征在于，所述第二安装板的下端面上设有缓冲盒，所述缓冲盒上设有环形槽，所述第二固定杆穿过所述环形槽安装在所述缓冲盒中，所述第二固定杆的上端设有缓冲块，所述缓冲块安装在所述缓冲盒中，所述缓冲块上设有第一定位柱，所述缓冲盒的内壁上设有第二定位柱，所述第一定位柱和第二定位柱上套有缓冲弹簧。

3.根据权利要求1所述的陶瓷加工用釉面抛光装置，其特征在于，所述第二安装板的下端面上设有第一减震杆，所述第一减震杆的下端设有第二减震杆，所述第一减震杆和第二减震杆之间设有减震弹簧，所述第二减震杆下端设有滚轮。

4.根据权利要求1所述的陶瓷加工用釉面抛光装置，其特征在于，所述固定块上设有凸型槽，所述匹配块上设有凸型块，所述匹配块通过凸型块匹配的安装在所述固定块的凸型槽中。

5.根据权利要求1所述的陶瓷加工用釉面抛光装置，其特征在于，所述固定块的上端设有压块，所述压块通过螺栓安装在所述固定块上，所述压块上设有压紧部，所述压紧部安装在所述匹配块上。

6.根据权利要求1所述的陶瓷加工用釉面抛光装置，其特征在于，所述抛光电机和旋转电机工作时转动方向相反。