[实用新型]薄膜厚度的测量装置有效
| 申请号： | 201920991578.6 | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN209991941U | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 李政 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B15/02 |
| 代理公司： | 31294 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 第一测量 第二测量 本实用新型 测量装置 校准参数 薄膜 样品承载台 比较模块 参考样品 待测样品 单层薄膜 多层薄膜 交叠设置 校准模块 样品承载 准确测量 校准 薄膜层 测量 | ||
【权利要求书】：
1.一种薄膜厚度的测量装置，其特征在于，包括：
样品承载台，参考样品及待测样品能够放置在所述样品承载台上；
第一测量组件，能够实现第一测量方法；
第二测量组件，能够实现第二测量方法；
比较模块，用于将所述第一测量组件的测量结果与第二测量组件的测量结果进行比较，以得到校准参数；
校准模块，利用所述校准参数对所述第一测量组件的测量结果进行校准。
2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述第一测量方法是椭圆偏振法，所述第一测量组件包括：
光源，设置在所述样品承载台上方，能够产生一线偏振光；
探测器，能够接收并检测所述参考样品或所述待测样品的反射光的光强；
处理器，与所述探测器电连接，接收所述探测器的信号并转换为所述参考样品或所述待测样品的薄膜层的厚度，所述参考样品或所述待测样品的薄膜层的厚度为所述第一测量组件的测量结果。
3.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述第二测量方法是X射线光电子能谱分析方法，所述第二测量组件包括：
X射线源，设置在所述样品承载台上方，能够产生预设波段的X射线；
磁谱仪，设置在所述参考样品下方，用于汇聚X射线产生的光电子；
分析仪，能够获取所述光电子，并根据所述光电子信息得到所述参考样品的薄膜层的厚度，所述参考样品的薄膜层的厚度为所述第二测量组件的测量结果。
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