[实用新型]一种膜层结构和触控屏有效
| 申请号： | 201920990212.7 | 申请日： | 2019-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN210438828U | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 沈登涛;曾一鑫 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/10;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58;G06F3/041 |
| 代理公司： | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人： | 王仲凯 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 结构 触控屏 | ||
【权利要求书】：
1.一种膜层结构，其特征在于，包括：
基板；
位于所述基板上的BM材料；
位于所述BM材料背离所述基板的表面的非饱和SiO2膜层；
位于所述非饱和SiO2膜层背离所述BM材料的表面的IM膜层；
位于所述IM膜层背离所述非饱和SiO2膜层表面的ITO膜层。
2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述ITO膜层包括：
位于所述IM膜层背离所述非饱和SiO2膜层的表面的第一折射率层；
位于所述第一折射率层背离所述IM膜层的表面的第二折射率层；
其中，所述第一折射率层对应的折射率大于所述第二折射率层对应的折射率。
3.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述非饱和SiO2膜层的厚度取值范围是9nm-99nm，包括端点值。
4.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述BM材料的厚度取值范围是1.5μm-3μm，包括端点值。
5.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述IM膜层的厚度取值范围是30nm-80nm，包括端点值。
6.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述基板是玻璃或PET基板。
7.一种触控屏，其特征在于，包括如权利要求1至6任一项所述的膜层结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利光电股份有限公司，未经信利光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920990212.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种橡胶管道加工用成型装置
- 下一篇：一种AGV车载超低顶升装置
- 同类专利
- 专利分类
