[实用新型]翻转滑动式腔门结构、等离子真空腔体及等离子处理设备有效
| 申请号: | 201920974151.5 | 申请日: | 2019-06-26 |
| 公开(公告)号: | CN210481516U | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
| 发明(设计)人: | 蔡刚强;王琛璐 | 申请(专利权)人: | 苏州卫鹏机电科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京东正专利代理事务所(普通合伙) 11312 | 代理人: | 刘瑜冬 |
| 地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 翻转 滑动 式腔门 结构 等离子 空腔 处理 设备 | ||
本实用新型公开了一种翻转滑动式腔门结构、等离子真空腔体及等离子处理设备,腔门结构包括滑轨、滑动安装在滑轨上的安装架以及转动连接在安装架内部的腔门,腔门两侧均设有料架托盘,腔门中部穿装有竖向旋转轴,竖向旋转轴安装在安装架内部,竖向旋转轴由位于安装架顶部的驱动机构A驱动,腔门在驱动机构A的作用下绕着竖向旋转轴在安装架内部旋转,安装架由位于其外部的驱动机构B驱动滑动;等离子真空腔体及等离子处理设备都采用了所述翻转滑动式腔门结构。本实用新型通过设置旋转真空腔门即可调换其两侧料架托盘的位置,进而实现快速更换进出材料的目的。
技术领域
本实用新型涉及真空技术领域,尤其涉及一种翻转滑动式腔门结构及等离子真空腔体及等离子处理设备。
背景技术
真空腔体在很多处理设备中都是必不可少的一部分,在现有的真空腔体中,大多数真空腔门一侧铰接在腔体本体的侧壁上,在更换进出材料时,打开真空腔门,一般是先将真空腔室内的材料取出后,再将待处理的材料放入真空腔室内,整个生产过程的效率低下,不能满足日益需求的生产要求。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型的目的是提供一种翻转滑动式腔门结构以及利用该翻转滑动式腔门结构的等离子真空腔体及等离子处理设备,该翻转滑动式腔门结构中的腔门设计成可翻转结构,在其两侧均设置料架托盘,通过在水平方向翻转腔门即可调换料架托盘的位置,进而实现快速更换进出材料的目的。
第一方面,本实用新型提供的翻转滑动式腔门结构,包括滑轨、滑动安装在滑轨上的安装架以及转动连接在安装架内部的腔门,腔门两侧均设有料架托盘,腔门中部穿装有竖向旋转轴,竖向旋转轴安装在安装架内部,竖向旋转轴由位于安装架顶部的驱动机构A驱动,腔门在驱动机构A 的作用下绕着竖向旋转轴在安装架内部旋转,安装架由位于其外部的驱动机构B驱动滑动。
本实用新型提供的翻转滑动式腔门结构,驱动机构B可以驱动安装架沿着滑轨滑动,靠近或远离腔体本体的进出口,当腔体本体内的物料处理完毕后,使腔门结构滑离腔体本体进出口,驱动机构A驱动竖向旋转轴旋转,进而带动腔门旋转,当腔门旋转180°后,腔门两侧料架托盘的的位置进行了调换,从而快速实现更换进出材料的目的。
作为本实用新型的一个优选实施方式,进一步地,为了保证安装架滑动过程中的稳定性,安装架为矩形框架结构,其至少一侧设有肋板,肋板底部设有与安装架底部固定连接的水平支撑板,水平支撑板底部设置滑块,滑块滑动安装在滑轨上。
作为本实用新型的一个优选实施方式,进一步地,安装架内部空间在水平方向的长度及导轨的长度均不小于腔门的宽度及两个料架托盘最外侧间的距离,从而保证腔门可以顺利地在安装架内翻转,并且保证安装架在滑动过程中的稳定性。
作为本实用新型的一个优选实施方式,进一步地,驱动机构A为旋转电机,水平安装在安装架顶部,竖向旋转轴通过旋转轴承穿装在安装架顶部,竖向旋转轴上端穿出安装架顶部与旋转电机的输出轴通过锥形齿轮连接,和/或,驱动机构B安装在腔体本体顶部或底部,驱动机构B为气缸,其气缸轴与安装架顶端或底端连接,便于推动安装架滑动。
更进一步地,安装架顶部设有固定架,固定架为开口朝下的U型结构,其上开设有供竖向旋转轴上端穿出的通孔,驱动机构A安装在固定架上方。
再进一步地,固定架上方设有罩盖,用于覆盖锥形齿轮,罩盖一侧开设用于穿装驱动机构A输出轴的通孔,罩盖可以有效防止外部杂物对锥形齿轮造成干扰而引起的故障。
作为本实用新型的一个优选实施方式,进一步地,腔门两侧均固定有支架,料架托盘底部转动连接在支架端部,通过旋转料架托盘,即可快速将其内部的物料倒出,提高生产效率;料架托盘包括间隔设置的多层托盘平台以及固定连接托盘的背板,多层托盘平台可以提高料架托盘整体的装载量,并且使物料充分与真空腔室内的离子等物质接触。
作为本实用新型的一个优选实施方式,进一步地,腔门上开设有观察窗,便于操作者通过腔门观察腔体内的情况。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





