[实用新型]用于化学气相沉积反应的供气系统有效
| 申请号: | 201920971911.7 | 申请日: | 2019-06-25 |
| 公开(公告)号: | CN210458362U | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
| 发明(设计)人: | 张少雷;屈丰超;王世举;杨文涛 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 董文倩 |
| 地址: | 102209 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 化学 沉积 反应 供气 系统 | ||
1.一种用于化学气相沉积反应的供气系统,其特征在于,包括:
液态源储存设备,用于存储液态源;
汽化设备,与所述液态源储存设备可切断地连通,所述汽化设备用于对液态源汽化;
气体存储设备,与所述汽化设备可切断地连通,所述气体存储设备用于储存所述汽化设备汽化形成的气体;
化学气相沉积反应设备,与所述气体存储设备连通。
2.根据权利要求1所述的供气系统,其特征在于,所述汽化设备包括进液口,所述进液口的一端与所述液态源储存设备可切断地连通,所述汽化设备还包括:
第一壳体,具有第一容纳腔;
雾化喷头,位于所述第一容纳腔内,所述雾化喷头与所述进液口的另一端连通,所述雾化喷头用于将所述液态源雾化为液滴;
至少一个加热器,所述加热器设置在所述第一容纳腔内和/或设置在所述第一容纳腔外,所述加热器用于将所述液滴加热为气态。
3.根据权利要求2所述的供气系统,其特征在于,所述加热器包括加热棒和/或第一电热伴设备。
4.根据权利要求2所述的供气系统,其特征在于,所述汽化设备还包括穿设在所述第一壳体底部的漏液传感器。
5.根据权利要求4所述的供气系统,其特征在于,所述汽化设备还包括吹扫管路接口,所述吹扫管路接口设置在所述汽化设备的靠近进液口的一端。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的供气系统,其特征在于,所述气体存储设备包括:
第一本体,具有第二容纳腔;
第一压力表,与所述第二容纳腔连通,用于测量所述第二容纳腔内的压力。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的供气系统,其特征在于,所述用于化学气相沉积反应的供气系统还包括第二电伴热设备和第二管线,所述第二管线为可切断地连通所述汽化设备和所述气体存储设备的管线,所述第二电伴热设备至少设置在所述汽化设备的外表面、所述气体存储设备的外表面以及所述第二管线的外表面。
8.根据权利要求7所述的供气系统,其特征在于,所述用于化学气相沉积反应的供气系统还包括:
第三管线,用于可切断地连通所述气体存储设备与所述化学气相沉积反应设备;
质量流量计,设置在所述第三管线上。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的供气系统,其特征在于,所述液态源储存设备包括:
第二本体,具有第三容纳腔;
第二压力表,与所述第三容纳腔连通,所述第二压力表用于测量所述第三容纳腔内的压力。
10.根据权利要求1至5中任一项所述的供气系统,其特征在于,所述液态源储存设备还包括液位传感器,所述液位传感器用于测量所述液态源储存设备中的所述液态源的液面高度。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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