[实用新型]一种电镀铜球清洗设备

权利要求书

1.一种电镀铜球清洗设备，包括过滤箱(1)、清洗槽(2)和基板(3)，所述过滤箱(1)位于清洗槽(2)内，所述清洗槽(2)通过四条支腿与基板(3)固定连接，其特征在于，

所述清洗槽(2)上设置有使所述过滤箱(1)晃动的摇动装置(4)。

2.根据权利要求1所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述摇动装置(4)设有两组，两组摇动装置(4)在清洗槽(2)上左右对称设置。

3.根据权利要求1所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述摇动装置(4)包括无杆气缸(41)、连接板(42)、滑动板(43)、滑台(44)和直线导轨(45)，所述直线导轨(45)固定在所述清洗槽(2)开口的端面上，所述滑台(44)与直线导轨(45)滑动连接，所述滑动板(43)与所述过滤箱(1)连接且固定在所述滑台(44)上，所述无杆气缸(41)通过连接板(42)与所述滑动板(43)连接。

4.根据权利要求3所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述摇动装置(4)还包括用于降低过滤箱(1)重力冲击的缓冲机构，所述缓冲机构设置在滑动板(43)上且与过滤箱(1)连接。

5.根据权利要求4所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述缓冲机构包括圆柱轴(46)、缓冲弹簧(47)和被圆柱轴(46)贯穿且沿圆柱轴(46)轴向移动的搁台(48)，所述圆柱轴(46)有两组且固定设置在滑动板(43)上，所述缓冲弹簧(47)与圆柱轴(46)套接且所述缓冲弹簧(47)的一端与滑动板(43)连接，另一端与搁台(48)连接，所述过滤箱(1)与搁台(48)连接。

6.根据权利要求5所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述过滤箱(1)的开口位置处设置有与过滤箱(1)一体成型的搁板(11)，所述搁板(11)设有两块，两块搁板(11)对称设置在过滤箱(1)开口位置的左右端，所述搁板(11)置于所述搁台(48)上，搁板(11)内设置有用于避空圆柱轴(46)的避空槽(13)。

7.根据权利要求6所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述搁台(48)呈“U”型结构，所述搁板(11)呈“7”字状结构，所述搁板(11)包括竖直段(11-1)和水平段(11-2)，所述竖直段(11-1)与过滤箱(1)连接，所述水平段(11-2)置于“U”型结构的搁台(48)内。

8.根据权利要求7所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述水平段(11-2)远离竖直段(11-1)的一端设置有方便提取过滤箱(1)的环把手(12)。

9.根据权利要求1-7任一项所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述清洗槽(2)的底部设置有“V”型结构的沉淀仓(21)，所述沉淀仓(21)的底部连接有泄流管(22)。

10.根据权利要求9所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述清洗槽(2)内与所述沉淀仓(21)的连接处环向设置有限位台(23)，所述限位台(23)上设置有多个通孔。