[实用新型]一种建筑基坑回灌水处理装置有效
申请号: | 201920932333.6 | 申请日: | 2019-06-20 |
公开(公告)号: | CN210439319U | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 杨小丽;李甜;刘莹;其他发明人请求不公开姓名 | 申请(专利权)人: | 杨小丽;李甜;刘莹 |
主分类号: | E02D19/10 | 分类号: | E02D19/10;C02F9/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 255100 *** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 建筑 基坑 灌水 处理 装置 | ||
本实用新型公开了一种建筑基坑回灌水处理装置,包括回灌水处理外框,回灌水处理外框表面底部相对应的位置均设置有移动装置,初级挡板与次级挡板相对应的两侧之间且位于次级过水孔的下部固定连接有初级滤网,次级挡板与回灌水处理外框内壁且位于次级过水孔的下部依次固定连接有次级滤网、活性炭滤网,回灌水处理外框的内壁顶部且位于进水管的位置固定连接有缓流装置,本实用新型涉及土建施工技术领域。该一种光建筑基坑回灌水处理装置,达到了过滤,移动方便的效果,结构合理简单,使用方便,减小对环境的污染,有效避免了杂物堆积堵塞,提高了回灌效率,移动方便且稳定性好,避免随意移动,提高了使用性能。
技术领域
本实用新型涉及土建施工技术领域,具体为一种建筑基坑回灌水处理装置。
背景技术
建筑施工是指工程建设实施阶段的生产活动,是各类建筑物的建造过程,在建筑施工过程中挖掘的基坑往往会进入回灌水影响施工的进度,由于基坑降水后,不可避免地造成基坑周围地下水位的下降,从而使基坑周边地面原有建筑物和地下构筑物因不均匀沉降而受到不同程度的损伤。为了减少以上影响或损伤,应在基坑与要保护的建筑物之间采取回灌措施,根据本基坑的地层特点,回灌措施采用坑外回灌井,此外为了解地下水位变化,及时调整回灌水量,还应在基坑周围设置水位观测井。目前,市场上现有的建筑基坑回灌水处理装置结构过于简单,使用不方便,现有的回灌水处理往往采用水泵加水管抽取的方式,抽取出的回灌水直接排放污染了环境,没有过滤效果,长时间排放,回灌井容易发生杂物堆积堵塞,从而影响到回灌效率,而且抽水装置体积大,不方便移动,有的为了移动方便,在底部安装滚轮,但稳定性差,容易随意移动,降低了使用性能。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种建筑基坑回灌水处理装置,解决了结构过于简单,使用不方便,现有的回灌水处理往往采用水泵加水管抽取的方式,抽取出的回灌水直接排放污染了环境,没有过滤效果,长时间排放,回灌井容易发生杂物堆积堵塞,从而影响到回灌效率,而且抽水装置体积大,不方便移动,有的为了移动方便,在底部安装滚轮,但稳定性差,容易随意移动,降低了使用性能的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种建筑基坑回灌水处理装置,包括回灌水处理外框,所述回灌水处理外框表面底部相对应的位置均设置有移动装置,所述回灌水处理外框内壁顶部和内壁底部相对应的两侧之间依次固定连接有初级挡板、次级挡板,所述初级挡板的表面且靠近回灌水处理外框内壁顶部位置开设有初级过水孔,所述次级挡板的表面顶部位置开设有次级过水孔,所述初级挡板与次级挡板相对应的两侧之间且位于次级过水孔的下部固定连接有初级滤网,所述次级挡板与回灌水处理外框内壁且位于次级过水孔的下部依次固定连接有次级滤网、活性炭滤网,所述回灌水处理外框的顶部一侧连通有进水管,所述回灌水处理外框的内壁顶部且位于进水管的位置固定连接有缓流装置,所述回灌水处理外框的表面底部一侧连通有出水管。
优选的,所述出水管的内部设置有阀门,所述回灌水处理外框的底部且与缓流装置相对应的位置螺纹连接有第一螺纹塞,所述回灌水处理外框的底部且位于初级挡板、次级挡板之间螺纹连接有第二螺纹塞,所述回灌水处理外框底部相对应的位置均固定连接有底座。
优选的,所述移动装置包括电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的表面一侧与回灌水处理外框的表面一侧固定连接,所述电动伸缩杆的工作端固定连接有Z形滑块,所述Z形滑块的一端与回灌水处理外框的表面一侧滑动连接,所述Z形滑块的底部固定连接有万向轮。
优选的,所述回灌水处理外框的表面底部一侧开设有与Z形滑块相适配的滑动槽。
优选的,所述初级过水孔的位置高于次级过水孔的位置。
优选的,所述缓流装置包括支撑轴,所述支撑轴的顶部与回灌水处理外框的内壁顶部固定连接,所述支撑轴的表面且位于回灌水处理外框的内部转动连接有缓流扇叶。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨小丽;李甜;刘莹,未经杨小丽;李甜;刘莹许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920932333.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带透气结构的服装
- 下一篇:一种塑封膜用中切刀机构