[实用新型]一种焦炉蓄热室有效

专利信息
申请号: 201920913701.2 申请日: 2019-06-18
公开(公告)号: CN210458037U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 马科伟 申请(专利权)人: 华泰永创(北京)科技股份有限公司
主分类号: C10B29/00 分类号: C10B29/00;B01D53/76;B01D53/56
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 张函;王春伟
地址: 100176 北京市大兴区经济技术*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 焦炉 蓄热
【权利要求书】:

1.一种焦炉蓄热室,其特征在于,包括:

焦炉蓄热室本体,包括第一炉墙;

气体入口,设置于所述第一炉墙上,用于接收含氨气体以使所述含氨气体流入所述焦炉蓄热室本体内部的脱硝区域;

气体分布装置,包括挡块,所述挡块设置在所述焦炉蓄热室本体内部,并位于所述气体入口的下方,所述挡块的顶面用于接触所述含氨气体以改变所述含氨气体的流向。

2.根据权利要求1所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述气体入口的轴线位于第一平面内,所述第一平面沿所述第一炉墙高度方向延伸且经过所述挡块;

所述挡块的顶面与所述气体入口的轴线在所述第一炉墙的高度方向上具有设定距离。

3.根据权利要求1所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述挡块为耐火砖。

4.根据权利要求1-3任一项所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述气体入口为多个,多个所述气体入口沿炉墙的长度方向间隔排列,所述挡块的顶面沿所述第一炉墙的长度方向延伸;所述挡块的顶面设有一个或多个凹槽,所述凹槽沿所述炉墙长度方向延伸。

5.根据权利要求4所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述的焦炉蓄热室,还包括蓄热砖,所述蓄热砖包括上层蓄热砖、下层蓄热砖;

所述炉墙上设有支撑块,所述下层蓄热砖放置在所述焦炉蓄热室本体的底部,所述支撑块支撑所述上层蓄热砖,以使所述上层蓄热砖和下层蓄热砖之间形成所述脱硝区域,所述气体入口开设在所述支撑块上,所述挡块一体成型在所述支撑块上。

6.根据权利要求2所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述挡块的顶面沿所述气体入口的轴线延伸;所述挡块的顶面与所述第一平面相垂直。

7.根据权利要求6所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述挡块的顶面设有一个或多个凹槽,所述凹槽沿第一设定方向延伸,所述凹槽用于承接所述含氨气体,使所述含氨气体沿所述凹槽流动;所述气体分布装置还包括支撑件,所述支撑件与所述挡块和焦炉蓄热室本体相连接或搭接,以使所述挡块的顶面与所述焦炉蓄热室本体的底部具有设定距离。

8.根据权利要求7所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述支撑件包括第一支撑件,所述第一支撑件设置在所述第一炉墙上,并与所述挡块的一端相连接;所述焦炉蓄热室还包括第二炉墙,所述第二炉墙与所述第一炉墙相对,所述支撑件还包括第二支撑件,所述第二支撑件设置在所述第二炉墙上并与所述挡块的另一端相连接。

9.根据权利要求1-3任一项所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述挡块的顶面设有多个通气孔,所述通气孔贯穿所述挡块的顶面和底面;所述的焦炉蓄热室还包括:下层蓄热砖,所述下层蓄热砖放置在所述焦炉蓄热室本体的底部;所述挡块的底部设置有支脚,所述支脚支撑在所述焦炉蓄热室的下层蓄热砖的上表面上。

10.根据权利要求1-3任一项所述的焦炉蓄热室,其特征在于,所述挡块的宽度为10mm到500mm之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华泰永创(北京)科技股份有限公司,未经华泰永创(北京)科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920913701.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top