[实用新型]磁控溅射圆柱靶的两级密封装置

权利要求书

1.一种磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，包括：

中空圆柱状的靶材；

用于对靶材端部进行封装的密封端头，其一侧设置有盲堵，另一侧设置有能伸入靶材内部的连接柱；

用于将靶材与密封端头连接成一体的卡扣组件；

其中，所述连接柱在与靶材配合的一侧边缘处，以及靠近盲堵的一侧边缘处，分别设置有环形结构的第一沉槽、第二沉槽；

所述第一沉槽、第二沉槽上分别设置有实现两级密封的第一密封机构、第二密封机构。

2.如权利要求1所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述靶材的两侧端部外侧壁上分别设置有环形结构的第三沉槽；

所述连接柱在朝向盲堵一侧设置有第一锥形过渡面；

所述卡扣组件被配置为包括：

两块相互配合且呈半圆结构的卡扣，各卡扣与靶材相配合一端的内径被配置为小于另一端的内径；

其中，各卡扣在与靶材相配合的一端内侧壁上设置有与第三沉槽相配合的凸棱，与连接柱相配合的一端内侧壁上设置有向内收缩，且与第一锥形过渡面相配合的第二锥形过渡面；

各卡扣的端部上设置有相配合的螺孔，以通过螺栓实现卡扣闭合连接。

3.如权利要求2所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述连接柱在与第二锥形过渡面相配合的位置上设置有对靶材安装位进行限定的环形凸台。

4.如权利要求2所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述凸棱与第二锥形过渡面之间设置有对靶材、密封端头安装位置进行限定的台阶状限定部。

5.如权利要求1所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述第一密封机构、第二密封机构分别被配置为采用环形结构的橡胶或硅胶密封圈。

6.如权利要求4所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述第一密封机构的外径被配置为比靶材内径大0.1～0.2mm；

所述第二密封机构的外径被配置为比靶材内径大0.5～0.6mm。

7.如权利要求1所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述密封端头以及卡扣组件被配置为采用304不锈钢以制得。

8.如权利要求4所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述台阶状限定部上设置有与其相配合的空心状硅胶固定层；

其中，所述硅胶固定层的被压缩后的厚度被配置在0.05-0.15mm。

9.如权利要求1所述的磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，其特征在于，所述靶材的内侧壁上设置有与第一密封机构、第二密封机构相配合的第四沉槽，第五沉槽；

其中，所述第四沉柄槽、第五沉槽的槽深为第一沉槽、第二沉槽的1/3。