[实用新型]一种废水处理技术研发用发光仪的防护底座

权利要求书

1.一种废水处理技术研发用发光仪的防护底座，包括发光仪本体(1)，其特征在于：所述发光仪本体(1)的底部固定连接有底座(2)，所述底座(2)内部两侧的前侧和后侧均开设有动力槽(3)，所述底座(2)正面和背面的两侧均设置有手柄(4)，所述手柄(4)靠近底座(2)的一侧固定连接有传动柱(5)，所述传动柱(5)的表面活动连接有轴承(14)，所述轴承(14)靠近手柄(4)的一侧与动力槽(3)的内壁固定连接，所述传动柱(5)贯穿底座(2)并延伸至动力槽(3)的内部，所述传动柱(5)远离手柄(4)的一侧固定连接有第一齿轮(6)，所述第一齿轮(6)的外侧啮合有传动机构(7)。

2.根据权利要求1所述的一种废水处理技术研发用发光仪的防护底座，其特征在于：所述传动机构(7)包括第二齿轮(701)，所述第二齿轮(701)靠近手柄(4)的一侧活动连接有限位柱(702)，所述限位柱(702)靠近手柄(4)的一侧与动力槽(3)内壁的前侧固定连接，所述第一齿轮(6)和第二齿轮(701)远离手柄(4)一侧的顶部均固定连接有滑动柱(703)，所述滑动柱(703)的表面滑动连接有传动框(704)，所述传动框(704)的顶部与动力槽(3)内壁的顶部滑动连接，所述传动框(704)远离手柄(4)一侧的底部固定连接有固定板(705)，所述固定板(705)远离手柄(4)的一侧通过转轴活动连接有传动杆(706)，所述传动杆(706)远离手柄(4)一侧的底部通过转轴活动连接有限位板(707)，所述限位板(707)的两侧分别与动力槽(3)内壁的两侧滑动连接，所述限位板(707)的底部固定连接有支柱(708)，所述支柱(708)的底部贯穿底座(2)并延伸至底座(2)的底部。

3.根据权利要求2所述的一种废水处理技术研发用发光仪的防护底座，其特征在于：所述限位板(707)的两侧分别固定连接有限位块(8)，所述动力槽(3)内壁的两侧均开设有配合限位块(8)使用的限位槽(9)。

4.根据权利要求2所述的一种废水处理技术研发用发光仪的防护底座，其特征在于：所述限位板(707)底部的两侧均固定连接有复位弹簧(10)，所述复位弹簧(10)的底部与动力槽(3)内壁的底部固定连接。

5.根据权利要求2所述的一种废水处理技术研发用发光仪的防护底座，其特征在于：所述传动框(704)的底部固定连接有滑块(11)，所述动力槽(3)内壁的顶部开设有配合滑块(11)使用的滑槽(12)，所述滑块(11)形状呈梯形。

6.根据权利要求2所述的一种废水处理技术研发用发光仪的防护底座，其特征在于：所述传动框(704)的内部开设有配合滑动柱(703)使用的滑动槽(13)，所述滑动槽(13)的内壁与滑动柱(703)的表面紧密接触。