[实用新型]一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘

说明书

本实用新型一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘属于微纳光学元件生产设备领域。该自清洁涂胶装置包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴。承片托盘内部径向方向开设斜向上管道，用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对保护罩侧壁进行充分清洗；清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管；清洗液管与承片托盘底部相连。保护罩上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向，解决胶面彗尾等问题；承片托盘内部开设斜向上清洗液通道用于喷涂清洗液，全面清洗保护罩内壁；保护罩底部侧壁为圆弧斜坡形，易于排出清洗后废液，操作简单。整个装置复杂度低，成本低廉。

技术领域

本实用新型一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘属于微纳光学元件生产设备领域。

背景技术

涂胶是微纳光学元件生产过程中的重要工艺，是指将光刻胶均匀涂覆到晶圆表面的过程。目前通常使用旋涂式的涂胶设备进行光刻胶涂覆，其原理是在低速运动时将滴落在晶圆中心区域的光刻胶平铺在晶圆表面，在随后的高速运动过程中，将表面多余的光刻胶甩出晶圆，达到胶厚均匀一致的效果。

这种旋涂的方式，光刻胶从晶圆表面高速甩出后，会在保护罩内壁发生反弹，部分光刻胶会重新回到晶圆表面，产生彗尾或者晕圈等胶面溅射现象，破坏胶面的均匀性，对后续的光刻造成不利影响；此外，大部分甩出的光刻胶会粘结在保护罩内壁上，若不定期清理，也会在旋涂过程中，对晶圆表面造成污染。

现有的涂胶装置普遍存在光刻胶溅射的现象，解决该问题的方法目前主要有：降低晶圆转速来缓解光刻溅射问题，并未从根本上解决该问题；专利CN203561823提出了一种涂胶机室，采用横截面为梯形的胶杯罩代替原有柱面外罩；专利CN107783374提出了一种涂胶机系统，除采用倾斜侧壁外，还引入了抽气系统带走光刻胶微粒；但以上两种方法均没有考虑如何清理粘结在旋涂机侧壁上的光刻胶。

目前旋涂机侧壁的清理一般采用拆卸清洗的方式，清洗成本高，耗时长。专利CN203764494中提出一种新型的涂胶机装置，将保护罩更改为外罩和可相对外罩移动的内罩，通过内罩的上下移动和水平转动，对内罩进行清洗，省去了拆除清洗的步骤。这种方式的清洗流程相对复杂，内罩的上下移动和水平转动都需要额外的驱动电机控制，成本较高，系统复杂。

实用新型内容

为解决上述光刻胶溅射问题和旋涂机侧壁光刻胶清洗问题，本实用新型提供一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘。

本实用新型的目的是这样实现的：

一种自清洁涂胶装置，包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴；

所述保护罩上盖的上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向；

所述保护罩底座的底座侧壁为一个圆角斜面，便于光刻胶和清洗液流出；

所述承片托盘内部径向方向开设斜向上管道，倾斜方向与水平线之间的角度为4-12度，所述管道用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对上盖侧壁进行充分清洗；所述承片托盘中部位置开设一个通孔，承片托盘上表面有导气沟道，所述通孔上侧与所述导气沟道相连，所述通孔下侧与所述真空吸附系统相连；承片托盘中部位置开设一个沉孔，所述沉孔上端与所述斜向上管道相通，所述沉孔下端与清洗液管相连；

所述清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管，所述清洗液管与承片托盘底部相连。

上述自清洁涂胶装置，还包括废液收集装置，所述保护罩底座下端经由废液管路与废液收集装置相连。

以上自清洁涂胶装置，所述驱动电机为中空轴电机。