[实用新型]全口径抛光浸没式元件加工装置及抛光机

说明书

本实用新型涉及全口径抛光浸没式元件加工装置及抛光机，其中全口径抛光浸没式元件加工装置包括：工件盘，工件盘中部限定出一个浸没室，浸没室用于浸没加工中的元件；及抛光液输送泵，抛光液输送泵出液端通过抛光液输送管连接至浸没室上方喷射抛光液；其进液端与抛光液储液桶连接。经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本实用新型公开提供了一种全口径抛光浸没式元件加工装置，将元件放置在浸没室内，抛光液输送泵供液，抛光液由浸没室顶部流入，抛光液与加工中的元件各表面传导热量，从而有利于改善元件内部的温度分布均匀性，降低非均匀温度分布引起的变形。

技术领域

本实用新型涉及光学元件加工技术领域，更具体的说是涉及全口径抛光浸没式元件加工装置及抛光机。

背景技术

全口径抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一。全口径抛光机床通常采用大尺寸、高热稳定性的天然花岗岩制成抛光盘基盘，基盘表面浇制环形的沥青胶层作为抛光盘。沥青抛光盘的环带表面依次放有修正盘和工件盘，其中修正盘用于修正和控制抛光盘的形状误差，而工件盘则用于把持元件。加工时抛光盘、修正盘、工件盘均以一定的转速绕逆时针方向匀速旋转，放在工件盘内的光学元件在沥青抛光盘及其承载的抛光颗粒作用下产生材料去除从而形成光学表面。

抛光过程中，元件与抛光盘进行相对运动，它们之间的摩擦作用过程产生热量，产生的热量从元件的抛光表面进入元件内部，并从元件的各个表面散发出去，从而在元件内部形成非均匀温度场引起元件产生变形。元件完成加工下盘恒温以后，非均匀温度场转变为均匀温度场，元件的变形得到恢复，从而极大恶化了加工的元件面形。

因此，如何提供一种元件加工过程中保持元件处于均匀的温度场中的加工装置是本领域技术人员亟需解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了全口径抛光浸没式元件加工装置，解决了现有技术中元件加工过程中温度场不均匀导致元件产生变形从而恶化元件面形的技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

全口径抛光浸没式元件加工装置，包括：

工件盘，工件盘中部限定出一个浸没室，浸没室用于浸没加工中的元件；

及抛光液输送泵，抛光液输送泵出液端通过抛光液输送管连接至浸没室上方喷射抛光液；其进液端与抛光液储液桶连接。

经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本实用新型公开提供了一种全口径抛光浸没式元件加工装置，将元件放置在浸没室内，抛光液输送泵供液，抛光液由浸没室顶部流入，抛光液与加工中的元件各表面传导热量，从而有利于改善元件内部的温度分布均匀性，降低非均匀温度分布引起的变形。

优选地，抛光液输送管上设置有流量调节开关；通过抛光液输送管的流量调节开关即可调节供液流量，从而确保浸没室内的抛光液浸没元件并保持一定深度。

优选地，浸没室中安装有工作框和背板；工作框和背板中部均限定有加工孔；其中工作框外部形状与浸没室内部形状适配，背板固定于工作框上。工作框和背板的形状尺寸根据元件的尺寸进行加工。

优选地，还包括通过多个竖直上板和多个水平下板构成截面为L形的挡框，挡框对应固定于背板的加工孔处，多个水平下板构成的空间夹持元件。L形的挡框阻挡抛光液流出工件孔，从而在工件孔内形成浸没式加工环境，放在工件孔内的光学元件在加工过程中处于浸没式加工状态。由于抛光盘表面开有沟槽，实际加工时工件孔内的抛光液仅可通过工作框下方的沟槽缓慢流出工作孔。

优选地，竖直上板的顶端面高于安装后的元件顶部大于40mm；保证元件全部浸没于加工孔内，且保持在一定深度。

优选地，背板顶部设置有操作把手，方便移动背板。

优选地，工作框底部工作面平面度小于5μm；从而确保工作框工作面与抛光盘工作面贴合良好。