[实用新型]适用于无线充电环境的防涡流效应结构和无线充电装置有效
| 申请号: | 201920852797.6 | 申请日: | 2019-06-06 |
| 公开(公告)号: | CN209805460U | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
| 发明(设计)人: | 周宏亮;朱卓敏 | 申请(专利权)人: | 上海电享信息科技有限公司 |
| 主分类号: | H02J7/00 | 分类号: | H02J7/00;H02J50/10;H02J50/70;H02J5/00 |
| 代理公司: | 32103 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 孙仿卫 |
| 地址: | 200000 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 涡流效应 导磁层 无线充电线圈 隔离层 本实用新型 效应结构 防涡流 无线充电 无线充电装置 模块设置 模块提供 平行 安全 | ||
1.一种适用于无线充电环境的防涡流效应结构,用于在无线充电环境中对需要避免产生涡流效应的模块提供安装空间,其特征在于:所述防涡流效应结构包括导磁层和平行设置于所述导磁层一侧的隔离层,所述导磁层上开设有窗口,所述隔离层的一侧面上对应所述窗口开设有凹槽,所述需要避免产生涡流效应的模块设置于所述凹槽内。
2.根据权利要求1所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:所述防涡流效应结构设置于无线充电线圈的侧部,且所述无线充电线圈与所述导磁层、所述隔离层均平行,所述导磁层设置于所述无线充电线圈与所述隔离层之间。
3.根据权利要求1所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:所述隔离层的另一侧面上对应所述凹槽设置有保证所述凹槽的槽底厚度满足需要的凸起。
4.根据权利要求2所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:所述需要避免产生涡流效应的模块中的金属部分在所述导磁层上的投影面积为S1,所述导磁层上开设的所述窗口的面积为S2,所述无线充电线圈的面积为S3,S3>S2>S1。
5.根据权利要求4所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:S3>10S1,S2<2S1。
6.根据权利要求2所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:所述窗口的中轴线、所述凹槽的中轴线均与经所述无线充电线圈的圆心并垂直于所述无线充电线圈的垂线共线。
7.根据权利要求1所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:所述导磁层为单体结构或拼接结构。
8.根据权利要求2所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:所述无线充电线圈与所述导磁层之间,所述导磁层与所述隔离层之间分别设置有绝缘层。
9.根据权利要求1所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构,其特征在于:所述导磁层的材料为铁氧体,所述隔离层的材料为铝。
10.一种无线充电装置,包括无线充电线圈,其特征在于:所述无线充电装置还包括如权利要求1至9中任一项所述的适用于无线充电环境的防涡流效应结构。
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