[实用新型]一种化学机械抛光装置有效

专利信息
申请号: 201920838920.9 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN210499749U 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 潘永志;张明文;陈琳 申请(专利权)人: 湖南大合新材料有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30
代理公司: 衡阳雁城专利代理事务所(普通合伙) 43231 代理人: 邹强
地址: 421000 湖南省衡阳市*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种化学机械抛光装置,包括抛光头(1)、承载盘(2),所述抛光头(1)下方设有晶片夹持器(3),所述承载盘(2)表面铺设有抛光垫(4),所述抛光头(1)的旋转方向和所述承载盘(2)的旋转方向相反,其特征在于:所述承载盘(2)的盘面呈由盘中间向盘圆周逐渐降低的倾斜形状,倾斜角度为1.5-2.5°,所述盘中间各处的高度均相同,所述晶片夹持器(3)位于盘中间和盘圆周之间的上方,所述抛光头(1)的转速为3-20r/min。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光装置,其特征在于:所述倾斜角度为2°。

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