[实用新型]一种改变流体旋转流场方向的装置

权利要求书

1.一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：包括第一旋流机构（1）、第二旋流机构（2）和外筒（3），所述第一旋流机构（1）、第二旋流机构（2）均设有若干个，且第一旋流机构（1）和第二旋流机构（2）依次交替排布于外筒（3）的内部；

所述第一旋流机构（1）包括第一级旋流叶片（4）、第一安装底座（5）和第一拼接件（6），所述第一级旋流叶片（4）设有若干个，且均匀等距设置在第一安装底座（5）上，所述第一安装底座（5）固定连接在第一拼接件（6）表面；

所述第二旋流机构（2）包括第二级旋流叶片（7）、第二安装底座（8）和第二拼接件（9），所述第二级旋流叶片（7）设有若干个，且均匀设置在第二安装底座（8）上，所述第二安装底座（8）固定连接在第二拼接件（9）表面；所述第二拼接件（9）与第一拼接件（6）固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：所述第一旋流机构（1）所形成旋转流场的旋转方向与第二旋流机构（2）所形成旋转流场的旋转方向相反。

3.根据权利要求1所述的一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：所述第一级旋流叶片（4）和第二级旋流叶片（7）的形状为圆弧形状，所述第一级旋流叶片（4）和第二级旋流叶片（7）的叶片夹角呈角度函数，所述角度函数表示为A=F(L)，是以垂直于几何中心轴的平面在截面上相交直线的相对位置作为变量L，叶片夹角A相对于变量L的函数，所述几何中心轴为外筒（3）的几何中心轴线；所述角度函数在定义区间内连续，且处处存在不恒为0的二阶导。

4.根据权利要求1所述的一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：所述第一旋流机构（1）、第二旋流机构（2）的几何轮廓投影率在75-100%范围内。

5.根据权利要求1所述的一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：所述第一级旋流叶片（4）与第一安装底座（5）通过卡扣或插槽相互拼接、定位，所述第二级旋流叶片（7）与第二安装底座（8）通过卡扣或插槽相互拼接、定位。

6.根据权利要求1所述的一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：所述第一拼接件（6）与第二拼接件（9）均为一体一次性注塑件，且所述第一拼接件（6）与第二拼接件（9）之间通过o型密封圈密封连接。

7.根据权利要求1所述的一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：所述第一拼接件（6）与第二拼接件（9）中间设有空腔，所述空腔内安装有水管，所述第一拼接件（6）与第二拼接件（9）表面安装有喷嘴，所述喷嘴与空腔相连通。

8.根据权利要求1所述的一种改变流体旋转流场方向的装置，其特征在于：分别位于两端的第一拼接件（6）或第二拼接件（9）均通过承插焊接固定。