[实用新型]一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置

权利要求书

1.一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，其特征在于，所述装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述过气管(3)的出气口有一个或多个，每个出气口分别与一个西林瓶(2)相连。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述过气管(3)的材质包括橡胶或硅胶。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述过气管(3)包括一体成型的过气管；或通过三通管或直角弯管连接多段过气管得到的过气管。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述西林瓶(2)包括瓶身和瓶盖，所述瓶盖包括丁基橡胶瓶塞和铝塑瓶盖。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括用于固定过气管(3)的支架和夹子。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括针头延长软管。