[实用新型]一种基板清洗头及基板清洗装置有效

专利信息
申请号: 201920764826.3 申请日: 2019-05-24
公开(公告)号: CN210788334U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 蒋阳波;赵德文;李长坤;刘远航;路新春 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/10;B08B5/04;B08B13/00
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 张建纲
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基板清 洗头 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种基板清洗头,其特征在于,包括:具有一定厚度的圆盘状基座及同心连接于所述基座下表面的圆形清洁垫,所述基座沿厚度方向具有多个通道,所述清洁垫具有多个通孔,每个通孔耦合至不同的通道,不同的流体管延伸通过所述通道至所述清洁垫的通孔,使得清洗液可经由所述流体管及通孔喷射至基板表面并在与污染物结合后经由其他通孔吸走;所述基座与清洁垫之间可拆卸地设置有连接板,所述连接板具有与清洁垫同样分布的通孔,不同的流体管延伸通过所述基座的通道及连接板的通孔至所述清洁垫的通孔,使得清洗液可以经由流体管及清洁垫的通孔喷射至基板表面,或者,使得清洗液经由耦合的清洁垫的通孔及流体管从基板表面吸走。

2.如权利要求1所述的基板清洗头,其特征在于,所述通孔沿所述清洁垫的具有不同直径的圆周等距均匀分布。

3.如权利要求1所述的基板清洗头,其特征在于,所述通孔沿所述清洁垫的半径方向等距均匀分布。

4.如权利要求1至3中任一项所述的基板清洗头,其特征在于,相邻的两个通孔分别用于喷射和吸走清洗液。

5.如权利要求1所述的基板清洗头,其特征在于,所述清洁垫的半径小于所述基座的半径。

6.如权利要求1所述的基板清洗头,其特征在于,所述流体管的内壁设置有疏水层。

7.如权利要求1所述的基板清洗头,其特征在于,所述清洁垫的下表面设置有多个凸起。

8.如权利要求1所述的基板清洗头,其特征在于,所述清洁垫的半径小于基板的半径。

9.一种基板清洗装置,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的基板清洗头、清洗头驱动装置、基板固定装置、第一流体管路、第二流体管路,使得所述清洗头可距基板表面一定距离平行于基板表面移动,所述第一流体管路和第二流体管路分别将清洗头与供液单元和抽气单元连接。

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