[实用新型]一种氧化硅磨料抛光设备

说明书

本实用新型涉及一种氧化硅磨料抛光设备，它包括筛分仓、储存仓、混合箱和球磨机，筛分仓的内部设置有第一筛网，第一筛网的下方设置有挡板，挡板的下方设置有传送轴，筛分仓和储存仓通过连接管连接，储存仓和混合箱通过送料管连接，送料管上设置有送料泵，送料管和混合箱的之间设置有重量传感器，混合箱的上方连接有第一溶剂管，第一溶剂管上设置有第一流量计，第一溶剂管和混合箱的之间设置有第一电磁阀，球磨机的右侧设置有进料口，进料口与混合箱底部通过下料管连接，下料管上设置有第二电磁阀，进料口上连接有第二溶剂管，第二溶剂管上设置有第二流量计，第二溶剂管上设置有第三电磁阀；本实用新型具有混合均匀、控比精确、提高效率的优点。

技术领域

本实用新型涉及磨料抛光技术领域，具体涉及一种氧化硅磨料抛光设备。

背景技术

现有技术中，抛磨块是以刚玉或碳化硅等粉末为磨料，用烧结或浇注的方法制造的小型抛光磨具，主要用于抛光磨削各种金属或非金属物品的表面；用于金属抛光的抛磨块通常是使用高温烧结棕刚玉制造的抛磨块，由于现有工艺制作方法的影响，现有的抛磨块存在抛光质量差、耐磨度差等缺点，使用效果不够理想，因此很多高要求的抛光、磨削处理仍然是采用进口的抛磨块，这样大大提高了加工的生产成本；氧化硅磨料抛光是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品；广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光；如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工；因此，需要一种氧化硅磨料抛光设备。

发明内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，而提供一种混合均匀、控比精确、提高效率的一种氧化硅磨料抛光设备。

本实用新型的目的是这样实现的：一种氧化硅磨料抛光设备，它包括筛分仓、储存仓、混合箱和球磨机，所述的筛分仓的内部设置有第一筛网，所述的第一筛网的下方设置有挡板，所述的挡板的下方设置有传送轴，所述的传送轴的左侧设置有第一电机，所述的筛分仓的左侧设置有推拉板，所述的筛分仓和储存仓之间通过连接管连接，所述的储存仓和混合箱之间通过送料管连接，所述的送料管上设置有送料泵，所述的送料管和混合箱的交接处设置有重量传感器，所述的混合箱的上方设置有第二电机，所述的第二电机的下方设置有搅拌轴，所述的混合箱的上方连接有第一溶剂管，所述的第一溶剂管上设置有第一流量计，所述的第一溶剂管和混合箱的交接处设置有第一电磁阀，所述的球磨机的右侧设置有进料口，所述的进料口与混合箱底部通过下料管连接，所述的下料管上设置有第二电磁阀，所述的进料口上连接有第二溶剂管，所述的第二溶剂管上设置有第二流量计，所述的第二溶剂管上设置有第三电磁阀，所述的球磨机的左侧设置有出料口，所述的出料口上设置有第二筛网，所述的球磨机的下方设置有支腿，所述的支腿上设置有控制面板。

所述的控制面板电性连接有第一电机、送料泵、重量传感器、第二电机、第一电磁阀、第一流量计、第二电磁阀、第三电磁阀、第二流量计、球磨机。

所述的第一筛网的孔径大小为450-550目，所述的所述的第二筛网的孔径大小为500-750目。

所述的混合箱的外壁上设置有可视窗口。