[实用新型]用于细胞AQP功能无标记评估的太赫兹超材料检测装置

权利要求书

1.用于细胞AQP功能无标记评估的太赫兹超材料检测装置，其特征在于，由上而下包括夹具本体Ⅰ、微流道反应腔隙盖层、太赫兹超材料芯片和夹具本体Ⅱ，夹具本体Ⅰ与夹具本体Ⅱ均为正方形中空结构，微流道反应腔隙盖层嵌入夹具本体Ⅰ的底部，并与夹具本体Ⅰ的底部表面平齐，太赫兹超材料芯片嵌入夹具本体Ⅱ的顶部，并与夹具本体Ⅱ的顶部表面平齐，夹具本体Ⅰ与夹具本体Ⅱ磁吸式贴合；所述微流道反应腔隙盖层包括紧密贴合的方形基底和覆盖层两部分，覆盖层的中央开设圆形孔，所述圆形孔与基底构成反应槽。

2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述夹具本体Ⅰ与夹具本体Ⅱ的贴合面处分别埋设磁铁和相应的吸合部件。

3.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，在夹具本体Ⅰ的四个顶角处各开设一个定位销孔，并在夹具本体Ⅱ的贴合面对应位置设置与定位销孔对应的定位销。

4.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，在夹具本体Ⅰ的底部和顶部分别开设内部连通的方形凹槽Ⅰ和方形凹槽Ⅱ，两者之间形成隔板Ⅰ，方形凹槽Ⅰ的边长大于方形凹槽Ⅱ，所述微流道反应腔隙盖层嵌入方形凹槽Ⅰ，并与夹具本体Ⅰ的底部平面平齐；夹具本体Ⅱ的顶部和底部分别开设方形凹槽Ⅲ和方形凹槽Ⅳ，两者之间形成隔板Ⅱ，方形凹槽Ⅲ的边长大于方形凹槽Ⅳ，所述太赫兹超材料芯片嵌入方形凹槽Ⅲ，并与夹具本体Ⅱ的顶部平面平齐。

5.根据权利要求4所述的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括缓冲垫圈层Ⅰ和缓冲垫圈层Ⅱ，它们均为方形环状，缓冲垫圈层Ⅰ设置于微流道反应腔隙盖层与夹具本体Ⅰ之间；缓冲垫圈层Ⅱ位于太赫兹超材料芯片与夹具本体Ⅱ之间；缓冲垫圈层Ⅰ、缓冲垫圈层Ⅱ的环宽分别与隔板Ⅰ、隔板Ⅱ一致。

6.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述基底靠近夹具本体Ⅰ，覆盖层靠近夹具本体Ⅱ，在反应槽对应位置处的基底上开设两个孔，分别作为进样孔和流出孔，在孔上连接软管。

7.根据权利要求6所述的检测装置，其特征在于，在孔上粘结直通型聚丙烯转接头，所述转接头上套接硅胶软管。

8.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述太赫兹超材料芯片包括非金属基底以及在其表面溅镀的金属膜，在金属膜上刻蚀出周期性排布的圆环形狭缝，所述狭缝的底部为非金属基底。

9.根据权利要求8所述的检测装置，其特征在于，所述非金属基底的材质为双面抛光的高阻硅；所述金属膜的材质选自金、钛、银、铜、铝或镍中的任一种。