[实用新型]一种金属工件微弧氧化处理用污水处理设备有效

专利信息
申请号: 201920733368.7 申请日: 2019-05-21
公开(公告)号: CN210683406U 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 喻绍森 申请(专利权)人: 苏州斯瑞克新材料科技有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 蔡奂
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 工件 氧化 处理 污水处理 设备
【说明书】:

实用新型公开了一种金属工件微弧氧化处理用污水处理设备,包括箱体和污水管,所述箱体的左端端面在位于上端边缘处通过焊接贯穿连接有污水管,所述箱体的内部设置有反应池、沉淀池、储存池和底箱,所述反应池、沉淀池和储存池位于底箱的上端,所述反应池位于沉淀池的左端,所述沉淀池位于储存池的左端,所述污水管的右端端口贯穿连接在反应池的左端,所述反应池的上方在位于箱体的顶端处贯穿连接有药液管,所述药液管的底端同样贯穿反应池的顶端,所述药液管的右端通过支架固定连接有搅拌电机,可通过设置在表面的贯穿孔流入至集渣漏斗处进行沉淀,更加便捷,同时不会对沉淀后的沉淀物造成影响,更加实用。

技术领域

本实用新型属于微弧氧化处理相关技术领域,具体涉及一种金属工件微弧氧化处理用污水处理设备。

背景技术

微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等,是通过处理液与相应电参数的组合,在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。

现有的微弧氧化处理用污水处理设备技术存在以下问题:污水处理时,当混合溶液置入至沉淀箱体时,其下落的冲击力,易对底部已凝结的沉淀物造成冲击,导致沉淀物重新混合至溶液中,致使处理效果下降。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种金属工件微弧氧化处理用污水处理设备,以解决上述背景技术中提出的污水处理时,当混合溶液置入至沉淀箱体时,其下落的冲击力,易对底部已凝结的沉淀物造成冲击,导致沉淀物重新混合至溶液中,致使处理效果下降的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种金属工件微弧氧化处理用污水处理设备,包括箱体和污水管,所述箱体的左端端面在位于上端边缘处通过焊接贯穿连接有污水管,所述箱体的内部设置有反应池、沉淀池、储存池和底箱,所述反应池、沉淀池和储存池位于底箱的上端,所述反应池位于沉淀池的左端,所述沉淀池位于储存池的左端,所述污水管的右端端口贯穿连接在反应池的左端,所述反应池的上方在位于箱体的顶端处贯穿连接有药液管,所述药液管的底端同样贯穿反应池的顶端,所述药液管的右端通过支架固定连接有搅拌电机,所述搅拌电机与电源电性连接,所述搅拌电机的底端中心位置处通过焊接活动连接搅杆,所述搅杆贯穿箱体和反应池的顶端直至反应池的内部,所述搅拌电机的右端设置有混合液入管,所述混合液入管的一端端口贯穿箱体和反应池的顶端直至反应池内部,所述混合液入管的另一端则通过焊接固定连接在自吸泵的左端端面处,所述自吸泵与电源电性连接,所述自吸泵的底端通过支架固定在沉淀池的上方,所述自吸泵的底端端口通过焊接固定连接混合液排管的顶端,所述混合液排管贯穿箱体和沉淀池的顶端直至沉淀池的内部,所述沉淀池的内部在位于混合液排管的下方位置处设置有缓冲装置,所述缓冲装置的四周边缘通过焊接固定连接在沉淀池的矩形内壁处,所述缓冲装置的上方在位于混合液排管的右侧设置有溢水盆,所述溢水盆的底端中心端面处通过焊接固定连接排水管的一端,所述排水管的另一端则贯穿沉淀池的右端内壁和储存池的左端内壁直至到储存池的内部,所述缓冲装置的下方在位于沉淀池的内部处设置有集渣漏斗,所述集渣漏斗的四周通过焊接固定连接在沉淀池的矩形内壁处,所述集渣漏斗的底端中心位置处通过焊接固定连接下渣管的顶端,所述下渣管的底端贯穿沉淀池的底端内壁和底箱的顶端内壁直至到底箱的内部,所述下渣管的底端端口通过焊接固定连接排渣管的顶端,所述排渣管位于底箱的内部,所述底箱套接排渣管,所述排渣管的左侧在位于底箱的内部设置有排渣电机,所述排渣电机与电源电性连接,所述排渣电机的右端端面中心处通过焊接活动连接传动杆,所述排渣电机右端连接的传动杆贯穿排渣管的左端内壁直至排渣管的内部,所述排渣电机右端连接的传动杆在位于排渣管内部的外表面横向连接有排渣旋杆,所述排渣旋杆可在排渣电机的驱动下在位于排渣管的内部进行转动,所述排渣管的右端端面通过焊接贯穿连接排渣阀,所述排渣阀的上方在位于储存池的右下角处位置设置有排水阀。

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