[实用新型]一种钙钛矿光电探测器有效
申请号: | 201920710271.4 | 申请日: | 2019-05-17 |
公开(公告)号: | CN209785975U | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 王宇英;贺瑞;孟彦龙 | 申请(专利权)人: | 杭州师范大学 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/44 |
代理公司: | 33224 杭州天勤知识产权代理有限公司 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 311121 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电探测器 钙钛矿 光学调制层 光反射膜层 电介质层 顶层电极 本实用新型 波长选择性 底层电极 光吸收层 光响应度 器件耦合 光能量 衬底 入射 下层 上层 覆盖 吸收 | ||
1.一种钙钛矿光电探测器,其特征在于,包括自下而上依次组成的衬底、底层电极、光吸收层、顶层电极和光学调制层,所述光学调制层包括下层的电介质层和上层的光反射膜层,所述电介质层选自Si、ZnO、ZnS、Si3N4、Al2O3、SiO2和TiO2中的一种,所述光反射膜层选自Au、Ag、Al、Cu、Ni、Pt、Ti、TiN和ZrN中的一种。
2.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,当所述电介质层选自ZnO、SiO2和TiO2中的一种时,所述光反射膜层选自Au或Ag;或,
当所述电介质层为Al2O3时,所述光反射膜层为TiN。
3.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述电介质层的厚度为10~200nm。
4.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述光反射膜层的厚度为5~50nm。
5.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述的底层电极选自Au、Ag、Al、Cu、Ni、Pt和Ti中的一种;
所述底层电极的厚度为50~500nm。
6.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述的光吸收层选自CH3NH3PbI3、CsPbI2Br和CH(NH2)2PbI3中的一种。
7.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述光吸收层的厚度为50nm~1μm。
8.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述的顶层电极选自Au、Ag、Al、Cu、Ni、Pt、Ti、TiN和ZrN中的一种。
9.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述顶层电极的厚度为5~50nm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择