[实用新型]一种浅层土壤六价铬污染场地的原位修复装置有效

专利信息
申请号: 201920710233.9 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN209985990U 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 杜丽阳;宋贵民;曹磊;仲崇军;孙琴;阿荣其其格 申请(专利权)人: 北京淖尔科技有限公司
主分类号: B09C1/08 分类号: B09C1/08
代理公司: 11390 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 胡剑辉
地址: 100000 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 中空夹板 隔离圈 栏板装置 泡沫孔 喷淋腔 降解 污染物 原位修复装置 本实用新型 多层隔离层 六价铬污染 环形连接 均匀设置 内侧表面 浅层土壤 同心套装 修复区域 隔离层 铬离子 侧壁 导槽 多层 填充 扩散 修复 贯穿 土壤
【权利要求书】:

1.一种浅层土壤六价铬污染场地的原位修复装置,其特征在于,包括由若干个栏板装置(1)环形连接成的隔离圈(2),所述栏板装置(1)包括弧形的中空夹板(101),所述中空夹板(101)的表面均匀设置有基势导槽(102),所述中空夹板(101)的内侧表面设置有降解泡沫孔层(103),位于降解泡沫孔层(103)顶部的中空夹板(101)上设置有喷淋腔(104),且所述喷淋腔(104)的两端贯穿中空夹板(101)的侧壁。

2.根据权利要求1所述的一种浅层土壤六价铬污染场地的原位修复装置,其特征在于,所述中空夹板(101)的两侧设置半开的配合槽(105),且所述中空夹板(101)两侧的配合槽(105)设置方向相反;

所述中空夹板(101)两端内侧壁上设置有嵌装槽(106)。

3.根据权利要求1所述的一种浅层土壤六价铬污染场地的原位修复装置,其特征在于,所述基势导槽(102)内向延伸至降解泡沫孔层(103),且不完全贯穿,基势导槽(102)延伸至降解泡沫孔层(103)内的表面均匀设置有贯穿孔(107)。

4.根据权利要求1所述的一种浅层土壤六价铬污染场地的原位修复装置,其特征在于,组成隔离圈(2)的任意一个中空夹板(101)的顶部中间设置有向喷淋腔注液的连接螺口(108)。

5.根据权利要求1所述的一种浅层土壤六价铬污染场地的原位修复装置,其特征在于,所述基势导槽(102)两端通过滑槽(109)安装在中空夹板(101)的侧壁上,中空夹板(101)与基势导槽(102)两端连接处的滑槽(109)表面等间距排列有用于固定基势导槽(102)的螺钉孔(110)。

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