[实用新型]一种半导体设备的不间断储水装置及半导体设备有效

专利信息
申请号: 201920706945.3 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN209658145U 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 王超;李克飞 申请(专利权)人: 合肥晶合集成电路有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) 代理人: 王华英<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 230012 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 储水单元 输水单元 半导体设备 本实用新型 抽水装置 储水装置 调节组件
【说明书】:

本实用新型提出一种半导体设备的不间断储水装置,包括:不间断输水单元;储水单元,所述储水单元连接所述不间断输水单元,所述不间断输水单元与所述储水单元之间设置有调节组件,所述储水单元包括多个容器及抽水装置,其中,所述抽水装置连接所述多个容器。本实用新型提出的半导体设备的不间断储水装置设计合理,结构简单。

技术领域

发明涉及半导体设备领域,特别涉及一种半导体设备的不间断储水装置及半导体设备。

背景技术

半导体在制造过程中会面临着很多困难,例如离子污染,环境污染引起的晶圆污染,离子污染是半导体制造工艺和成品器件面临的挑战,因为少量污染物就会引起晶圆或最终的个体电子组件出现腐蚀、侵蚀、电迁移和器件短路。

离子色谱是一种高效的分析技术,可以快速测定半导体行业中多种工艺污染物的痕量成分和主要成分。该技术便于定量分析常见的无机阴离子和阳离子、特定的有机添加剂、过渡金属、多价离子和有机络合剂。采用在线离子色谱过程监测时,可以在万亿分之一的极低水平上快速测定这些成分,便于立即采取补救措施。

半导体制造业离不开超纯水,超纯水中的污染物可能使正常的掺杂分布图失真,形成反型层或引起短路,或者引起其他的电路故障,因此保持超纯水不被污染是至关重要的。

实用新型内容

鉴于上述现有技术的问题,本实用新型提出一种半导体设备的不间断储水装置,所述不间断储水装置能够实现实时补水,不需要停机补水,有效减少了外界因素对超纯水的影响,同时也减少了工作人员的工作负担。

为实现上述目的或其他目的,本实用新型提出一种半导体设备的不间断储水装置,包括:

不间断输水单元;

储水单元,所述储水单元连接所述不简单输水单元,所述不简单输水单元与所述储水单元之间设置有调节组件,所述储水单元包括多个容器及抽水装置,其中,所述抽水装置连接所述多个容器。

在一实施例中,所述不间断输水单元通过分流器连接所述储水单元,所述调节组件设置在所述分流器与所述不间断输水单元之间。

在一实施例中,所述多个容器之间通过分流器连接。

在一实施例中,所述储水单元包括第一容器,第二容器及第三容器,所述第一容器连接清洗瓶。

在一实施例中,所述清洗瓶包括第一部分及第二部分,所述第一部分设置在所述第二部分内,所述第二部分连接收集槽。

在一实施例中,所述第二容器连接多个第一抽水装置,所述第二容器通过所述分流器连接所述多个第一抽水装置。

在一实施例中,所述第三容器连接多个第二抽水装置,所述第三容器通过所述所述分流器连接所述多个第二抽水装置。

在一实施例中,所述调节组件包括调压阀和/或流量控制器。

在一实施例中,所述分流器包括三通阀。

本实用新型还提出一种半导体设备,包括不间断储水装置、送样装置、检测装置和数据采集装置,所述不间断储水装置、送样装置、检测装置和数据采集装置依次连接。

本实用新型提出一种半导体设备的不间断储水装置,通过将储水单元与不间断输水单元连接起来,能够对半导体设备实现不间断的补水,有效杜绝了外界因素对超纯水的影响,提高了检测结果的准确性,同时也减少了工作人员的工作负担。

附图说明

图1:本实施例提出的一种半导体设备的不间断储水装置的连接示意图。

图2:分流器的结构示意图。

图3:清洗瓶的结构示意图。

图4:本实施例提出的半导体设备结构的简要示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥晶合集成电路有限公司,未经合肥晶合集成电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920706945.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top