[实用新型]带有FFU单元的匀胶机有效

专利信息
申请号: 201920694269.2 申请日: 2019-05-15
公开(公告)号: CN209624977U 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 王云翔;冒薇;段仲伟;马冬月;许爱玲;李晓帅;祝翠梅;姚园 申请(专利权)人: 苏州美图半导体技术有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 南京思拓知识产权代理事务所(普通合伙) 32288 代理人: 苗建
地址: 215123 江苏省苏州市工*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 匀胶 匀胶机 工作面板 本实用新型 腔室 洁净空气 排风口 排出 载液 室内 单元产生 顶部设置 无尘环境 盖板 衬底 液池 载盘 封闭 支撑
【说明书】:

本实用新型涉及一种匀胶机,尤其是一种带有FFU单元的匀胶机,属于匀胶机的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述带有FFU单元的匀胶机,包括机架以及位于所述机架上的匀胶腔室;在所述匀胶腔室的顶部设置能提供洁净空气的FFU单元,在匀胶腔室的下部设置用于将气体排出的排风口;在匀胶腔室内设置有多孔工作面板以及设置于所述多孔工作面板上的载液池,在所述载液池内设置用于支撑匀胶衬底的匀胶载盘,在多孔工作面板上设置能封闭载液池的盖板;FFU单元产生的洁净空气进入匀胶腔室内,透过多孔工作面板后能经排风口排出。本实用新型结构紧凑,能提供匀胶工艺中所需的无尘环境,使用方便,安全可靠。

技术领域

本实用新型涉及一种匀胶机,尤其是一种带有FFU单元的匀胶机,属于匀胶机的技术领域。

背景技术

在MEMS(Micro-Electro-Mechanical System)领域,匀胶是光刻工艺的基本步骤之一,即在衬底上滴入少量光刻胶,然后高速旋转衬底,使光刻胶均匀摊开,形成一层均匀的光刻胶薄膜。匀胶工艺对环境洁净度要去很高(通常要百级或千级),空气粉尘颗粒过多或颗粒过大都会对匀胶均匀性产生致命影响。然而百级或千级实验室建造成本太高,目前还有大部分实验室的环境洁净度都达不到要求。

发明内容

本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种带有FFU单元的匀胶机,其结构紧凑,能提供匀胶工艺中所需的无尘环境,使用方便,安全可靠。

按照本实用新型提供的技术方案,所述带有FFU单元的匀胶机,包括机架以及位于所述机架上的匀胶腔室;在所述匀胶腔室的顶部设置能提供洁净空气的FFU单元,在匀胶腔室的下部设置用于将气体排出的排风口;

在匀胶腔室内设置有多孔工作面板以及设置于所述多孔工作面板上的载液池,在所述载液池内设置用于支撑匀胶衬底的匀胶载盘,在多孔工作面板上设置能封闭载液池的盖板;FFU单元产生的洁净空气进入匀胶腔室内,透过多孔工作面板后能经排风口排出。

多孔工作面板上设置若干允许洁净空气透过的面板孔,在多孔工作面板上设置能控制盖板位置状态的盖体控制机构,通过盖体控制机构能使得盖板压盖在载液池上,或使得盖板与载液池分离。

所述盖体控制机构包括设置于多孔工作面板上的驱动电机以及与所述驱动电机的电机轴连接的盖板连接轴,盖板连接轴的一端与驱动电机的电机轴连接,盖板连接轴的另一端与多孔工作面板上的轴座连接,盖板与盖板连接轴固定连接。

在所述多孔工作面板上还设置能摆动的滴胶手臂以及用于收集残胶的滴胶臂废液罐,滴胶手臂在多孔工作面板上摆动时,滴胶手臂的滴胶口能与匀胶载盘或滴胶臂废液罐对应。

在所述匀胶腔室的正面还设置能升降的匀胶腔室拉门。

在所述机架的底端设置若干均匀分布的支撑底座,在机架上还设置触摸屏。

本实用新型的优点:通过FFU单元能为匀胶腔室提供洁净的空气,通过排风口能实现将气体排出,从而能在匀胶腔室内得到匀胶工艺所需的无尘环境;通过滴胶臂废液罐能收滴胶手臂在闲置时产生的少量残胶,使用方便,安全可靠。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的气体流动示意图。

图3为本实用新型盖板与载液池分离的示意图。

图4为本实用新型盖板压盖在载液池上的示意图。

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