[实用新型]柔性透明电磁屏蔽膜及制备装置

说明书

本实用新型提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，连续移动的柔性有机透明基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，并控制通入各沉积阴极室的氧气和惰性气体的流量，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机透明基材的上下表面。

技术领域

本实用新型涉及涉及真空镀膜领域，提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜，可广泛应用于柔性透明电磁屏蔽膜、柔性显示器件、柔性薄膜太阳能电池的生产制造中。

背景技术

电磁屏蔽是电磁兼容工程中广泛采用的抑制电磁骚扰的有效装置之一。随着各种电子设备的广泛应用，很多关键、重要部门应用光学窗的场合，如电子设备的观察窗口（LCD显示器、OLED等数码显示屏幕、雷达显示器、精密仪器、仪表等显示器窗口）、建筑物重点部位的观察窗（采光屏蔽窗、屏蔽室可视窗、可视隔断屏风等）、要求电磁屏蔽的机柜、指挥仪方舱、通讯车观察窗等，都要求光学窗在可见波段具有高透射低反射的光学特性，同时还具有较强的宽波段电磁屏蔽能力，防止电磁信息泄漏，防护电磁辐射污染；有效保障仪器设备正常工作，保障机密信息的安全。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜，可广泛应用于柔性透明电磁屏蔽膜、柔性显示器件、柔性薄膜太阳能电池的生产制造中。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现：

柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，它包括在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，连续移动的柔性有机透明基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，并控制通入各沉积阴极室的氧气和惰性气体的流量，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机透明基材的上下表面；在真空镀膜腔内设置有用于避免阴极靶材氧化物沉积残渣掉落于柔性有机透明基材上而对沉积质量产生影响的防污装置。

上述柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜，可广泛应用于柔性透明电磁屏蔽膜、柔性显示器件、柔性薄膜太阳能电池的生产制造中。

上述的柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，柔性有机透明基材依次通过阴极靶材分别是Si、Al、Si、Nb、Si、Si、AZO、Al的第一至第八磁控溅射装置，各磁控溅射装置沉积阴极室内均通入作为反应气体的氧气；先后由第一、第二磁控溅射装置作用在柔性有机透明基材上表面依次沉积SiO₂阻隔层、Al₂O₃透明硬化层，继而先后由第三至第八磁控溅射装置作用在柔性有机基材下表面依次沉积SiO₂阻隔层、NbO_X（0≤x≤5）调节层1、SiO₂调节层2、SiO_X（0≤x≤2）调节层3、AZO透明磁屏蔽层、Al₂O₃透明硬化层。

上述的柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，第一磁控溅射装置中，氧气流量12sccm、氩气流量500 sccm、溅射功率2.0KW，真空度达到4×10^-3 torr；