[实用新型]一种气体纯化装置

说明书

本实用新型提供一种气体纯化装置，由原料瓶、缓冲瓶、加料罐、吸附罐、冷凝器、产品罐通过管路连接而成，所述的原料瓶装有待纯化粗原料，出口通过管路与缓冲瓶的进口相接，管路中装有阀门；所述的缓冲瓶的出口通过管路接入吸附罐内的下部，连接管路中装有阀门；所述的加料罐通过管路与吸附罐相接；所述的吸附罐的出口通过管路与冷凝器的入口相接，连接管路中装有阀门；所述的冷凝器的出口与产品罐相接，连接管路中装有阀门；其特征在于：所述的吸附罐内装有折流板、不锈钢θ环和氧化钡，底部设有排料口。具有接触面积大，停留时间长、纯化效果好等优点。

技术领域

本实用新型涉及一种深度脱水的纯化装置，具体的是涉及深度纯化氨气体中的水，属于化工分离技术领域。

背景技术

高纯氨气是半导体技术发展需求的重要材料，主要应用在IC；LCD，OLED，LED，PV等领域，在半导体技术中，高纯氨气是重要的成膜材料，形成氮化硅、氮化镓、氮化铝等等，作为直接生长用的氮源，水的含量是影响薄膜光电性能的重要指标，深度脱出氨中的水是保证外延生长、芯片制造的基础，高质量的氨气水含量要求20*10^-9V/V 以下，随着半导体技术的发展，对气体中的水含量提出更高的要求，通常氨气脱水采用硅胶、分子筛、氧化铝吸附以及精馏、冷冻等方法，脱出水的深度达到50-100*10^-9V/V，对于更高要求的提纯，无法提高产品的纯化深度。

发明内容

为克服现有技术的缺点，本实用新型的目的是提供一种通过化学反应的脱水装置，以实现稳定的气体纯化效果。

脱水原理：

BaO+H₂O ---Ba（OH）₂

本实用新型目的技术解决方案是：一种气体纯化装置，由原料瓶、缓冲瓶、加料罐、吸附罐、冷凝器、产品罐通过管路连接而成，所述的原料瓶装有待纯化粗原料，出口通过管路与缓冲瓶的进口相接，管路中装有阀门；所述的缓冲瓶的出口通过管路接入吸附罐内的下部，连接管路中装有阀门；所述的加料罐通过管路与吸附罐相接；所述的吸附罐的出口通过管路与冷凝器的入口相接，连接管路中装有阀门；所述的冷凝器的出口与产品罐相接，连接管路中装有阀门；其特征在于：所述的吸附罐内装有折流板、不锈钢θ环和氧化钡，底部设有排料口。

本实用新型同现有技术相比具有接触面积大，停留时间长、纯化效果好等优点。

附图说明

图1为本实用新型实施例的气体纯化装置示意图。

图中：1、原料瓶 ，2、缓冲瓶，3、加料罐，4、吸附罐，5、冷凝器，6、产品罐，7、排料口，8、折流板，9、不锈钢θ环。

具体实施方式

下面结合附图说明实施例:

原料瓶1装有待纯化粗原料，工作时加热到35℃；缓冲瓶2为保持汽化后的原料稳定的进料；加料罐3用于吸附剂补加；吸附罐4内部加有折流板6，加有不锈钢θ环9及氧化钡；冷凝器5温度控制在0-5℃之间；产品罐6收集纯化后的产品。

1、原料氨气体含有水1000*10^-9V/V，流量每分钟2000ml，常温条件下通过反应器，冷凝收集产品，采用光腔震荡激光专用水分仪检测，结果水11*10^-9V/V；

2、原料氨气体含有水1000*10^-9V/V，流量每分钟3000ml，常温条件下通过反应器，冷凝收集产品，检测结果水15*10^-9V/V；

3、原料氨气体含有水2000*10^-9V/V，流量每分钟2000ml，常温条件下通过反应器，冷凝收集产品，检测结果水12*10^-9V/V；

结论：采用本装置深度脱出氨气中的水，脱出深度达到20*10^-9V/V以下。