[实用新型]等离子沉积设备

权利要求书

1.一种等离子沉积设备，用于对靶棒进行沉积处理，其特征在于：包括支架、安装于所述支架上的传动组件、若干温控组件及等离子组件，所述传动组件与所述靶棒连接，所述温控组件安装于所述靶棒周侧，以控制所述靶棒温度，所述等离子组件一端靠近所述靶棒，以对所述靶棒进行沉积处理。

2.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：每一所述温控组件包括壳体及若干进气管，所述壳体两端设有开口，以容许所述靶棒穿过，所述进气管一端连通于所述壳体侧壁，另一端用于通入冷却气体。

3.根据权利要求2所述的等离子沉积设备，其特征在于：每一所述温控组件上的进气管数量根据所述靶棒的长度设计，所述进气管沿所述壳体长度方向依次排列。

4.根据权利要求2所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述温控组件之间的靶棒所在区域形成沉积区，所述进气管气体流量沿着远离所述沉积区的方向依次递减，以使每一所述温控组件内的气流向所述沉积区方向移动。

5.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述等离子沉积设备还包括固定架及多个承载支架，所述固定架沿长度方向设有导轨，所述承载支架可移动的安装于所述固定架的导轨上。

6.根据权利要求5所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述承载支架上分别安装有所述传动组件、温控组件及等离子组件，以使所述传动组件、温控组件及等离子组件能够沿所述固定架长度方向移动。

7.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述等离子沉积设备还包括抽风组件，所述抽风组件与所述等离子组件分别安装于所述靶棒径向相对的两侧。

8.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述等离子组件包括本体及喷管组件，所述喷管组件穿过所述本体一端，并连通于所述本体另一端。

9.根据权利要求8所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述喷管组件包括多个管道，所述管道同轴设置。

10.根据权利要求8所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述等离子组件还包括水冷组件及点火组件，所述水冷组件呈螺旋状环绕设置于所述本体外，所述点火组件安装于所述本体一端。