[实用新型]基于光折射的辉度均匀装置及护理设备

权利要求书

1.基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，包括入光侧及与所述入光侧相背对设置的出光侧；所述入光侧沿其长度方向上包括第一光处理区及第二光处理区，所述第一光处理区设置为正对光源，所述第一光处理区沿所述入光侧长度方向分布有用于将光线进行反射和/或折射的光学微结构，两所述第二光处理区分别设于所述第一光处理区两侧并用于对两侧边缘光线进行发散处理。

2.如权利要求1所述的基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，各所述光学微结构沿所述入光侧长度方向依次连接成波浪状，所述第一光处理区沿所述入光侧长度方向上的长度设置为大于所述光源沿入光侧长度方向上的长度，且所述第一光处理区的中心线设置为与所述光源的中心线重合。

3.如权利要求2所述的基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，所述光学微结构为平面。

4.如权利要求2所述的基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，所述光学微结构为曲面。

5.如权利要求2所述的基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，所述第一光处理区及两所述第二光处理区均沿所述入光侧长度方向上呈外凸的曲线延伸，且所述第一光处理区与两所述第二光处理区同心设置。

6.如权利要求5所述的基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，两所述第二光处理区与所述第一光处理区的波峰连线位于同一圆弧上，且所述第一光处理区的波峰连线与波谷连线同心设置。

7.如权利要求6所述的基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，所述入光侧与所述出光侧之间还设有至少一反射孔，且各所述反射孔设置为正对所述光源设置。

8.如权利要求7所述的基于光折射的辉度均匀装置，其特征在于，所述反射孔呈正三角形状，且所述反射孔的一条边设置为与所述光源的发光方向正对并垂直。

9.护理设备，包括壳体及至少一设于所述壳体内的光源，其特征在于，所述护理设备还包括如权利要求1至8任一项所述的基于光折射的辉度均匀装置，所述基于光折射的辉度均匀装置安装于所述壳体上，所述基于光折射的辉度均匀装置设置为所述护理设备的外观装饰件，所述基于光折射的辉度均匀装置的第一光处理区正对各所述光源设置。

10.如权利要求9所述的护理设备，其特征在于，所述护理设备包括三并列设置的光源，所述入光侧及所述出光侧之间设有三反射孔，各所述反射孔的排列方向与各所述光源的排列方向相同，且各所述反射孔与各所述光源一一正对设置。