[实用新型]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

基板保持部，其将基板保持为水平；

旋转驱动机构，其与所述基板保持部连接，使所述基板保持部绕铅垂轴线旋转；

处理液喷嘴，其设置于所述基板保持部的上方，向所述基板保持部所保持的基板的上表面的边缘部供给处理液；

杯体，其设置成包围所述基板保持部所保持的基板的周围，将从所述基板向外方飞散的处理液回收；

排气口，其设于所述杯体的底面，对所述杯体的内部空间进行抽吸；以及

覆盖部件，其呈环状，具有下表面和内周面，其中，

所述覆盖部件覆盖所述基板保持部所保持的基板的上表面的边缘部，而比该边缘部靠径向内侧的基板中央部未被所述覆盖部件覆盖而显露，

所述覆盖部件的所述内周面的下部的内径向下方逐渐变大，

所述覆盖部件的所述下表面与所述基板保持部所保持的基板的上表面的边缘部之间形成有间隙，在对所述杯体的内部空间进行排气时，在所述杯体的所述内部空间的上方存在的气体，从覆盖部件的所述内周面所包围的空间，穿过所述间隙，被导入至所述杯体的内部空间。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述覆盖部件的所述内周面的下端部与所述下表面的内周部以曲面连接。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述覆盖部件的所述下表面的内周缘位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠内侧的位置，所述覆盖部件的所述下表面的外周缘位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠外侧的位置。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述覆盖部件的所述下表面的内周缘，位于比所述基板保持部所保持的基板的所述边缘部的内周缘靠内侧的位置。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述间隙的开口面积比所述排气口的面积大。

6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述杯体具有供所述覆盖部件的下部插入的上部开口部，在所述杯体的形成所述上部开口部的壁体上设有向下方延伸的弯折部。

7.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

基板保持部，其将基板保持为水平；

旋转驱动机构，其与所述基板保持部连接，使所述基板保持部绕铅垂轴线旋转；

处理液喷嘴，其设置于所述基板保持部的上方，向所述基板保持部所保持的基板的上表面的边缘部供给处理液；

杯体，其设置成包围所述基板保持部所保持的基板的周围，将从所述基板向外方飞散的处理液回收；

排气口，其设于所述杯体的底面，对所述杯体的内部空间进行抽吸；以及

覆盖部件，其呈环状，具有下表面和内周面，其中，

所述覆盖部件覆盖所述基板保持部所保持的基板的上表面的边缘部，而比该边缘部靠径向内侧的基板中央部未被所述覆盖部件覆盖而显露，

所述覆盖部件的所述下表面的内周缘位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠内侧的位置，所述覆盖部件的所述下表面的外周缘位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠外侧的位置，

所述覆盖部件的所述下表面与所述基板保持部所保持的基板的上表面的边缘部之间形成有间隙，在对所述杯体的内部空间进行排气时，在所述杯体的所述内部空间的上方存在的气体，从覆盖部件的所述内周面所包围的空间，穿过所述间隙，被导入至所述杯体的内部空间。