[实用新型]光罩清洗辅助治具有效
| 申请号: | 201920574141.2 | 申请日: | 2019-04-23 |
| 公开(公告)号: | CN209486465U | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
| 发明(设计)人: | 杜武兵;林伟;刘来孟 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维光电股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙) 44320 | 代理人: | 黄莉 |
| 地址: | 518057 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光罩 定位结构 定位台阶 承载面 清洗 清洗辅助 容纳槽 容置 治具 本实用新型 承载板 定位面 垂直 容纳区域 角落处 内侧壁 清洗机 侧边 适配 应用 | ||
本实用新型实施例提供一种光罩清洗辅助治具,包括承载板,承载板上开设有用于容置待清洗光罩的容纳槽,容纳槽内侧壁上设有至少两个定位结构,每个定位结构包括四个分别设于容纳槽的四角落处的定位台阶,每个定位台阶包括承载面和两个相互垂直且均垂直于所述承载面以抵靠定位待清洗光罩的对应侧边的定位面,每个定位结构的各个定位台阶的承载面位于同一平面内,且每个定位结构的四个定位台阶的承载面和定位面共同限定一个与一种尺寸规格的待清洗光罩适配的区域,不同定位结构限定的容纳区域对应容置不同尺寸规格的待清洗光罩。本实用新型实施例设多个定位结构,可容置不同尺寸规格的待清洗光罩,适用性强。本光罩清洗辅助治具可应用于光罩清洗机。
技术领域
本实用新型实施例涉及光罩清洗技术领域,尤其涉及一种光罩清洗辅助治具。
背景技术
在光罩生产及使用过程中都需要对光罩进行清洗,能自动对光罩进行清洗的光罩清洗机应运而生。光罩清洗机设有转盘来承载光罩以便进行清洗。现有光罩清洗机的转盘上设置有顶柱来对光罩进行支撑和限位以避免光罩在清洗过程中发生位移,而为满足多种尺寸规格的光罩的清洗需求,现有的光罩清洗机会在转盘上设置有若干组供插置顶柱的定位孔,每组定位孔即对应于一种尺寸规格的光罩,由此,通过将顶柱插置在不同的定位孔中即可组成不同尺寸规格光罩的支撑和限位结构。这种方式虽然可以适用多尺寸规格光罩的清洗,但是也存在需要频繁调整顶柱插置位置的不便,而且,由于转盘上的定位孔众多,要快速准确地将顶柱插置于对应成组的定位孔内也是较困难的。
实用新型内容
本实用新型实施例所要解决的技术问题在于,提供一种光罩清洗辅助治具,以适用于对多种尺寸的光罩进行有效定位。
为了解决上述技术问题,本实用新型实施例提供以下技术方案:一种光罩清洗辅助治具,包括承载板,所述承载板上开设有用于容置待清洗光罩的容纳槽,所述容纳槽内侧壁上设置有至少两个定位结构,每个定位结构包括四个分别设置于容纳槽的四角落处的定位台阶,每个所述定位台阶包括承载面和两个相互垂直且均垂直于所述承载面以抵靠定位待清洗光罩的对应侧边的定位面,每个定位结构的各个定位台阶的承载面位于同一平面内,且每个定位结构的四个定位台阶的承载面和定位面共同限定一个与一种尺寸规格的待清洗光罩相适配的容纳区域,不同定位结构限定的容纳区域对应容置不同尺寸规格的待清洗光罩。
进一步的,各个所述定位结构的定位台阶的承载面均位于同一平面内。
进一步的,所述定位结构分为至少两组,同组的定位结构中的定位台阶的承载面均位于同一平面内,且不同组的定位结构中的定位台阶的承载面位于不同的平面。
进一步的,所述承载板上还开设与所述容纳槽侧壁相贯通的操作口。
采用上述技术方案后,本实用新型实施例至少具有如下有益效果:本实用新型实施例通过在承载板上开设容纳槽,并在容纳槽内侧壁上设置有至少两个定位结构,每个定位结构包括四个分别设置于容纳槽的四角落处的定位台阶,每个定位结构的四个定位台阶的承载面和定位面共同限定一个容纳区域,由各个定位台阶位于同一平面内的承载面来承载待清洗光罩并由定位面来限定待清洗光罩的侧边,从而有效定位待清洗光罩。而不同定位结构所限定的容纳区域对应容置不同尺寸规格的待清洗光罩,通过设置多个定位结构,即可容置多种不同尺寸规格的待清洗光罩,适用性强。本实用新型光罩清洗辅助治具可以应用于光罩清洗机。
附图说明
图1是本实用新型光罩清洗辅助治具一个可选实施例的结构示意图。
图2是本实用新型光罩清洗辅助治具一个可选实施例安装待清洗光罩后的结构示意图。
图3是本实用新型光罩清洗辅助治具另一个可选实施例的结构示意图。
图4是本实用新型光罩清洗辅助治具还一个可选实施例的结构示意图。
具体实施方式
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





