[实用新型]掩膜版修补夹具

说明书

本实用新型实施例提供一种掩膜版修补夹具，包括底座和承载架，底座上设置有呈长方体状且用于容纳待修补掩膜版的凹槽，凹槽的内侧壁形成有台阶，承载架的两端位置可调节地组装于凹槽的相对两内侧壁上，承载架的顶面与台阶的顶面相平齐而共同构成对待修补掩膜版进行支撑的支撑平台。本实用新型实施例通过在底座上设置凹槽、台阶与承载架，从而共同构成对待修补掩膜版进行支撑的支撑平台，可以根据待修补掩膜版的大小灵活调整承载架的位置来平稳放置不同尺寸的待修补掩膜版；根据需要将凹槽的两个相邻侧壁确定为基准边，能方便将同为长方形状的待修补掩膜版的相邻两侧边抵靠在两个基准边上来获得精准的定位，有效提高掩膜版修补精度。

技术领域

本实用新型实施例涉及掩膜版修补技术领域，特别是涉及一种掩膜版修补夹具。

背景技术

现有的LCVD（激光化学气相沉积）修补机在对小尺寸掩膜版进行白缺陷的修补时，修补机版架上用来放置掩膜版的深度为5mm，而一部分9寸以下小尺寸掩膜版的厚度小于5mm，在进行修补时，LCVD修补机的沉积头距离掩膜版版面高度为1mm才可以聚焦清晰，因此直接将小尺寸掩膜版放置在LCVD修补机版架上，会导致沉积头下降至临界高度仍不能聚焦清晰。目前解决上述问题采用的方法为：在版架上放置透明玻璃，并增加垫片从而增加小尺寸掩膜版的高度，以达到LCVD修补机能聚焦清晰的目的。但是上述方法存在以下缺点：掩膜版放置在透明玻璃上，由于缺少固定掩膜版的装置或结构，支撑不牢固，掩膜版容易松动，从而导致缺陷的坐标点走位不精确；其次，掩膜版放置位置不精准，则导致图像显示弯曲，影响后续的修补工序；且掩膜版放置的水平性无法保证，镜头移动时，蹭伤掩膜版膜面的风险增大。由于上述缺点的存在，导致在修补该类掩膜版时，存在缺陷寻找难，修补精度差等问题，影响产品总体的修补良率。

实用新型内容

本实用新型实施例要解决的技术问题在于，提供一种掩膜版修补夹具，可平稳放置不同尺寸的掩膜版，且能方便定位修补掩膜版。

为解决上述技术问题，本实用新型实施例采用以下技术方案：一种掩膜版修补夹具，包括底座和承载架，所述底座上设置有呈长方体状且用于容纳待修补掩膜版的凹槽，所述凹槽的内侧壁还形成有台阶，所述承载架的两端位置可调节地组装于所述凹槽的相对两内侧壁上，所述承载架的顶面与所述台阶的顶面相平齐而共同构成对所述待修补掩膜版进行支撑的支撑平台。

进一步地，所述凹槽的相对两侧的台阶上按预定间隔设置有用于卡合容置所述承载架的两端从而使所述承载架可调节地组装于所述凹槽内的定位槽。

进一步地，所述承载架组装在所述定位槽内的两端的厚度与所述定位槽到台阶表面的深度一致。

进一步地，所述承载架两端的形状与所述定位槽的形状相匹配。

进一步地，所述凹槽的相对两侧壁还形成有相互平行且平行于所述台阶的顶面的滑动槽，所述承载架的两端可滑动地置于所述滑动槽内。

进一步地，所述凹槽的两个相对的内侧壁上还设有向凹槽外部凹陷形成的取料口。

进一步地，所述支撑平台上接触所述待修补掩膜版的部位设置有防护层。

采用上述技术方案，本实用新型实施例至少具有以下有益效果：本实用新型实施例通过在底座上设置呈长方体状且用于容纳待修补掩膜版的凹槽，并在凹槽的内侧壁形成台阶，再将承载架的两端设计为位置可调节地组装于所述凹槽的相对两内侧壁上，而且承载架的顶面与台阶的顶面相平齐，从而共同构成对所述待修补掩膜版进行支撑的支撑平台，在实际使用时还可以根据待修补掩膜版的大小灵活调整承载架的位置来平稳放置不同尺寸的待修补掩膜版；此外，由于凹槽呈长方体状，其任意两个相邻侧壁都是垂直的，可根据需要将其中两个相邻侧壁确定为基准边，从而能方便将同为长方形状的待修补掩膜版的相邻两侧边抵靠在两个基准边上来获得精准的定位，可有效提高掩膜版修补精度。

附图说明