[实用新型]单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种单银low‑e中空玻璃磁控溅射镀膜机，包括机台、设置在机台上的真空室，真空室其上部设置至少二十个阴极靶，与真空室连接设有呈波纹管形式的抽气管，抽气管的另一端与分子泵相连，分子泵通过呈波纹管形式的连接管与罗茨泵相连；真空室底部中心位置转动设有样品台，样品台下部设有加热源；真空室底板上固定连接有至少三块蒸镀膜收集板，蒸镀膜收集板上固定连接加热隔板。本实用新型在单银low‑e中空玻璃生产线上的磁控溅射镀膜机中增加了阴极位，使得本实用新型其镀膜的膜系增加，实现多腔群集式磁控镀膜的同时能够对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量。

技术领域

本实用新型涉及一种单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机。

背景技术

Low-E中空玻璃，可以有效减少阳光热辐射进入室内，并限制室内外热辐射的二次传导，也具有良好的采光性能，可使室内保持良好的采光效果，具有丰富的装饰效果和室外视线遮蔽效果，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡度，可广泛应用于建筑、装饰、汽车、船舶等行业；LOW-E膜层中镀有银层，银可将98％以上的远红外热辐射反射出去，从而像镜子反射光线一样直接反射热量。LOW-E的遮阳系数Sc可从0.2至0.7，从而可根据需要调控进入室内的太阳直接辐射能。而其中减反射膜尤以银膜应用最多，其一般通过镀膜机蒸镀上，在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。多腔群集式磁控镀膜设备可避免各靶材之间的交叉污染，但是成本昂贵；目前对镀膜其膜系的数量要求越来越高，但目前很难达到。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机，使得本实用新型其镀膜的膜系增加，实现多腔群集式磁控镀膜的同时能够对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机，包括机台、设置在机台上的真空室，真空室其上部设置至少二十个阴极靶，与真空室连接设有呈波纹管形式的抽气管，抽气管的另一端与分子泵相连，分子泵通过呈波纹管形式的连接管与罗茨泵相连；真空室底部中心位置转动设有样品台，样品台下部设有加热源；真空室底板上固定连接有至少三块蒸镀膜收集板，蒸镀膜收集板上固定连接加热隔板。在单银low-e中空玻璃生产线上的磁控溅射镀膜机中增加了阴极位，使得本实用新型其镀膜的膜系增加，蒸镀膜收集板及加热隔板的设置实现多腔群集式磁控镀膜的同时能够对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量，并且能够回收沉积在蒸镀膜收集板上的膜层回收利用。

进一步的技术方案是，阴极靶数量为二十至二十五个；所述样品台及蒸镀膜收集板采用塞钢制成。赛钢又称聚氧亚甲基；通常甲醛聚合所得之聚合物；银靶下面的部件采用绝缘材质制成，提高了磁控溅射其镀膜的膜层质量。

进一步的技术方案是，蒸镀膜收集板呈角钢状，加热隔板竖直设置；所述加热源为内置加热丝的加热盘，加热隔板内设置加热丝；抽气管及连接管上设置截止阀或气动插板阀。加热隔板与加热盘之间通过连接部相连，加热隔板与加热盘内的加热丝通过连接部相连；蒸镀膜收集板采用塞钢或铝合金，其内不设置加热丝，而蒸镀膜收集板上方的加热隔板内设置加热丝，这样在蒸镀时位于下方的蒸镀膜收集板温度低，有部分位于下方的蒸镀蒸汽或一部分溅射后下落的蒸镀蒸汽沉积在温度较低的蒸镀膜收集板上，而加热隔板不仅起到了在相邻的不同膜系溅射靶之间设置隔板组件，可减少溅射靶受到来自侧面的污染，并且加热隔板上几乎不沉积蒸镀膜层材料，便于集中在蒸镀膜收集板上收集膜层材料重新利用。