[实用新型]成像薄膜有效
申请号: | 201920543343.0 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN209928150U | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 郑伟伟;张海英;申溯 | 申请(专利权)人: | 昇印光电(昆山)股份有限公司 |
主分类号: | G02B30/26 | 分类号: | G02B30/26 |
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地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微结构层 复数 聚焦单元 图文单元 图案层 微图文 复数微结构 排列设置 一一对应设置 本实用新型 成像薄膜 等分设置 放大倍率 放大图像 中心垂直 焦平面 同一列 微结构 畸变 适配 图像 图案 | ||
本实用新型揭示一种成像薄膜,其包括微结构层和图案层;微结构层包括复数聚焦单元,所述聚焦单元包括排列设置的复数微结构;图案层包括复数图文单元,所述图文单元包括排列设置的复数微图文;其中,所述微结构层和图案层层叠设置且所述图案层位于所述微结构层的焦平面附近;其中,所述聚焦单元与所述图文单元相适配,所述复数微结构与所述复数微图文一一对应设置,且所述微结构的中心垂直对应所述微图文的点设定为对应点,则同一排或同一列中,对应点不等分设置,形成放大倍率存在不同的放大图像,且图像不会畸变。
技术领域
本实用新型涉及光学薄膜技术领域,尤其涉及一种成像薄膜。
背景技术
各种3D成像技术在信息、显示、医疗、军事、防伪、装饰等领域受到越来越多的关注。利用微透镜技术实现三维成像,具有非常的潜力和前景。随着微透镜阵列制造工艺的发展和高分辨率印刷和图像传感器的普及,3D成像技术吸引了越来越多的关注,3D成像的各项性能,比如景深,视角等,也得到了较大的提升。
3D成像技术常见的为周期型莫尔成像,其设计原理为:透镜层的微透镜周期性设置,其周期为Tr;图案层的微图文也周期性设置,其周期为Tb;Tr与Tb满足一定比例条件,例如r=Tb/Tr,则显示的莫尔图像相对于微图文的放大倍率为M=1/(1-r);当r>1时,莫尔图像上浮,当r<1时,莫尔图像下沉。根据放大倍率公示可得,莫尔图像的放大倍率取决于透镜层和图案层的周期比,周期比r越接近1,放大倍率越大,并趋向于无穷大。另外,周期比r也决定了莫尔图像的上浮(或下沉)的高度(或深度);以r<1为例,r越接近1,莫尔图像的下沉深度越深。
根据上述介绍,莫尔图像的放大倍率取决于透镜层和图案层的周期比。然而,莫尔放大并非传统的透镜放大,如果透镜层的微透镜周期Tr或者图案层的微图文周期Tb变化设置,显示的莫尔图像则会产生畸变。所以,上述周期型的理论并不能解释变周期的莫尔图像。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种成像薄膜以解决上述的技术问题。
本实用新型成像薄膜的一个技术方案是:
一种成像薄膜,其包括:
微结构层,其包括复数聚焦单元,所述聚焦单元包括排列设置的复数微结构;
图案层,其包括复数图文单元,所述图文单元包括排列设置的复数微图文;
其中,所述微结构层和图案层层叠设置且所述图案层位于所述微结构层的焦平面附近;
其中,所述聚焦单元与所述图文单元相适配,所述复数微结构与所述复数微图文一一对应设置,且所述微结构的中心垂直对应所述微图文的点设定为对应点,则同一排或同一列中,对应点不等分设置,形成放大倍率存在不同的放大图像。
其中一个实施例中,相邻两个所述微结构的距离定义为Dr,相邻两个所述微图文的距离定位为Db;其中,Dr为定值,Db为变量;或者,Dr为变量,Db为定值;或者,Dr为变量,Db为变量,且对应位置处,Dr≠Db。
其中一个实施例中,同一排内,Dr为定值,Db逐渐变大、逐渐变小、线变大后变小、先变小后变大或大小间隔变化。
其中一个实施例中,同一排内,Dr为定值,Db为变量,则满足以下公式:
M=Dr/|Dr-Db|;
其中,M为放大倍率,Db变化,M对应变化。
其中一个实施例中,同一排内,Db为定值,Db为变量,则满足以下公式:
M=Db/|Dr-Db|;
其中,M为放大倍率,Dr变化,M对应变化。
其中一个实施例中,一个或多个所述放大图像分布于一个非平面上,或一个倾斜面上。
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