[实用新型]镀膜治具和镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201920509627.8 申请日: 2019-04-15
公开(公告)号: CN209890729U 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 徐周 申请(专利权)人: 深圳菲比特光电科技有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 44287 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 代理人: 胡海国
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区龙城街道爱联社区嶂背工业区园湖新区7号101*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 镀膜产品 夹紧件 镀膜治具 基板 治具本体 本实用新型 镀膜设备 夹紧作用 手机外壳 粘接固定 有效地 残胶 抵接 凸设
【说明书】:

实用新型公开一种镀膜治具和镀膜设备,其中,该镀膜治具用于固定待镀膜产品,所述镀膜治具包括治具本体和夹紧件,治具本体包括基板和凸设于所述基板上的止抵台,所述夹紧件设于所述基板的一侧,所述待镀膜产品抵接在所述夹紧件和所述止抵台之间。通过夹紧件和止抵台的夹紧作用可以方便地实现待镀膜产品的固定,且手机外壳固定后十分牢固;更重要的是,由于采用了非粘接固定的固定方式,因此能够有效地避免待镀膜产品上残胶,从而能够提高手待镀膜产品的品质。

技术领域

本实用新型涉及真空磁控溅射镀膜及真空蒸发领域,特别涉及一种镀膜治具和镀膜设备。

背景技术

随着生活水平的提高,人们对手机外壳的外观的要求越来越高,为了使手机外壳更加耐用和美观,手机外壳加工过程中都要进行真空镀膜。真空镀膜一般采用磁控溅射镀膜及真空蒸发镀膜工艺,磁控溅射镀膜工艺是指在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜,真空蒸发镀膜是指在高真空条件下,用蒸发源使物质气化,蒸发离子流直接射向基片并在几片上沉积成度太薄膜的技术。现有技术中,用于手机外壳的镀膜设备上设有镀膜寸板,手机外壳通过双面胶粘合在镀膜衬板上,粘接方式导致手机外壳存在掉落的风险,且手机外壳镀膜后容易产生残胶,影响手机壳的品质。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种镀膜治具,旨在方便待镀膜产品的固定,并避免待镀膜产品上残胶。

为实现上述目的,本实用新型提出的镀膜治具,用于固定待镀膜产品,所述镀膜治具包括:治具本体,包括基板和凸设于所述基板上的止抵台;以及,夹紧件,设于所述基板的一侧,所述待镀膜产品抵接在所述夹紧件和所述止抵台之间。

优选地,所述夹紧件包括:限位部,凸设于所述基板的远离所述止抵台的一端;夹紧部,所述基板的靠近所述限位部的位置开设有导槽,所述夹紧部可活动地设于所述导槽中;以及,弹性部,所述弹性部的一端抵接于所述限位部,所述弹性部的另一端抵接于所述夹紧部。

优选地,所述夹紧部包括滑块和凸设于所述滑块上的夹扣,所述滑块活动设于所述导槽中;所述夹扣远离所述限位部的侧表面形成用于抵接所述镀膜产品的夹紧面。

优选地,所述夹扣远离所述限位部的一侧还设有与所述夹紧面相连的导向面,所述导向面与所述夹紧面之间的间距、在靠近所述导槽的方向呈减小设置。

优选地,所述镀膜产品为手机外壳;所述基板上形成有外凸的安装台,所述安装台背离所述基板的表面形成供所述手机外壳安装的安装面。

优选地,所述止抵台包括设于所述安装台上的第一凸台;所述第一凸台用于限位所述手机外壳的摄像头孔。

优选地,所述第一凸台的周侧壁在远离所述安装面的方向上呈外扩设置。

优选地,所述周侧壁与所述安装面的法线的夹角为8°至12°。

优选地,所述止抵台还包括设于所述安装台上的第二凸台;所述第二凸台用于限位所述手机外壳的指纹传感器孔。

本实用新型还提出一种镀膜设备,包括镀膜机和所述镀膜治具,所述镀膜治具的背离所述止抵台的背表面上设有磁吸件,所述镀膜机上设有供所述磁吸件磁吸固定的配合件,该镀膜治具包括:

治具本体,包括基板和凸设于所述基板上的止抵台;以及,夹紧件,设于所述基板的一侧,所述待镀膜产品抵接在所述夹紧件和所述止抵台之间。

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