[实用新型]一种辐射成像设备用晶体阵列有效
| 申请号： | 201920502049.5 | 申请日： | 2019-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN209946402U | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 屈春蕾;祁建伟 | 申请（专利权）人： | 无锡通透光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 32262 无锡市朗高知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵华 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶体阵列 胶水层 光学玻璃 本实用新型 反射层 辐射成像设备 反射材料 固定粘贴 竖直固定 探测效率 光隔离 顶面 制作 生产成本 | ||
【权利要求书】：
1.一种辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于，包括光学玻璃(1)、晶体条(2)、紫外胶水层(3)和反射层(4)，所述光学玻璃(1)上通过紫外胶水层(3)竖直固定有多根所述晶体条(2)形成晶体阵列，所述晶体阵列的四周和顶面分别通过紫外胶水层(3)固定粘贴有反射层(4)。
2.根据权利要求1所述的辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于：多根所述晶体条(2)通过玻璃夹具压紧固定在光学玻璃(1)上。
3.根据权利要求2所述的辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于：所述光学玻璃(1)的厚度范围为1-8mm，所述光学玻璃(1)的尺寸与晶体条(2)的尺寸相配合。
4.根据权利要求3所述的辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于：所述反射层(4)采用3M ESR胶带，特氟龙或者硫酸钡薄片。
5.根据权利要求4所述的辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于：设置在四周的所述反射层(4)的高度不小于晶体条(2)的高度。
6.根据权利要求5所述的辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于：设置在顶部的所述反射层(4)的宽度和长度均不小于光学玻璃(1)的尺寸。
7.根据权利要求6所述的辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于：设置在四周的所述反射层(4)依次相互垂直形成框形。
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