[实用新型]一种曝光机框架上料机构

权利要求书

1.一种曝光机框架上料机构，其特征在于，包括机架（1）和下框模块（9），所述的下框模块（9）的上方配合有放料装置（8），所述的放料装置（8）配合有进料输送装置（2），所述的放料装置（8）包括设置在机架（1）上的放料安装架（19），所述的放料安装架（19）上设置有能够同步相向或背向移动的两块居中卡块（14），且居中卡块（14）活动走向与进料输送装置（2）的输送方向垂直，两块居中卡块（14）的内侧设置有与进料输送装置（2）输送方向一致的放料输送装置，所述的下框模块（9）包括下框主体（31），所述的下框主体（31）的下方设置有能够穿过下框主体（31）的下框接料装置。

2.根据权利要求1所述的一种曝光机框架上料机构，其特征在于，所述的放料输送装置包括设置在放料安装架（19）上且穿透两个居中卡块（14）的放料给进转轴（16），所述的放料给进转轴（16）上套接有放料给进皮带轮（15），所述的放料给进皮带轮（15）安装在居中卡块（14）内侧的轴承座上，且放料给进皮带轮（15）与放料给进转轴（16）仅能进行轴向相对移动，所述的放料给进皮带轮（15）配合有放料给进皮带（17），所述的放料给进转轴（16）配合有放料给进电机（20）。

3.根据权利要求2所述的一种曝光机框架上料机构，其特征在于，所述的放料安装架（19）上设置有与放料给进皮带（17）垂直走向的居中活动滑轨（11），所述的居中活动滑轨（11）配合有两块居中活动滑块（12），所述的居中活动滑块（12）与放料安装架（19）上设置的居中皮带装置（13）固定连接，且居中卡块（14）设置在居中活动滑块（12）上。

4.根据权利要求1所述的一种曝光机框架上料机构，其特征在于，所述的放料安装架（19）上设置有挡料装置（18），所述的挡料装置（18）包括设置在放料安装架（19）上的挡料座（21），所述的挡料座（21）上设置有与放料给进皮带（17）同走向的挡料给进气缸（22），所述的挡料给进气缸（22）连接有挡料给进座（23），且挡料给进座（23）与挡料座（21）上设置的挡料给进滑轨（24）配合，所述的挡料给进座（23）上设置有挡料升降气缸（25），所述的挡料升降气缸（25）连接有挡料升降架（26），所述的挡料升降架（26）下方设置有挡料杆（27），部分挡料杆（27）上设置有与产品配合的挡料检测器（28）。

5.根据权利要求1所述的一种曝光机框架上料机构，其特征在于，所述的下框接料装置包括设置在下框主体（31）下方的下框接料气缸（33），所述的下框接料气缸（33）连接有可穿出下框主体（31）的下框接料升降杆（34），所述的下框接料升降杆（34）上端设置有下框接料吸盘（35），所述的下框主体（31）上表明还设置有气密胶条（32）。

6.根据权利要求5所述的一种曝光机框架上料机构，其特征在于，所述的下框接料气缸（33）连接有下框接料升降块（36），所述的下框接料升降块（36）上设置有不少于三根下框接料升降杆（34），且下框主体（31）的下方设置有与下框接料升降杆（34）套接配合的下框接料导向筒（37）。