[实用新型]供液系统

说明书

本实用新型提供一种供液系统，供液系统包括储液装置及液体处理装置，其中，液体处理装置包括：伸缩部件及驱动部件；伸缩部件与储液装置相连通，驱动部件与伸缩部件相连接，通过驱动部件驱动伸缩部件运行。本实用新型的供液系统，通过包括伸缩部件及驱动部件的液体处理装置，采用负压真空吸取方式，可降低伸缩部件中液体的气体溶解率，减少气泡的生成，且可实现自动补液功能；从而有效提高制程稳定性，提高产品质量，减少液体消耗量，降低维护成本，提高设备利用率。

技术领域

本实用新型属于半导体设备领域，涉及一种供液系统。

背景技术

在半导体领域中，光刻工艺一直被认为是半导体制造中最关键的步骤，其在整个工艺过程中被多次使用，对产品的质量有着重要的影响。

现有的光刻工艺流程中，在晶圆的表面涂覆均匀的光刻胶是光刻工艺的重要步骤，目前，在光刻涂敷制程工艺中，主流的光刻胶供液方式通常采用气压式，如在Track机台中，光刻胶的供液方式即采用氮气加压的方式(N₂ press)，此方式由于使用氮气加压光刻胶，因此在光刻胶的溶剂中，气体溶解率大幅上升，导致在光刻胶的供应中，会产生大量气泡，从而加大了后续机台过滤光刻胶中的气泡的负担。尤其当装载光刻胶的储液瓶呈现空瓶(empty)状态时，输送光刻胶的管路系统的前端可能会出现缺液现象，该缺液现象会造成气体进入到输送光刻胶的管路中，因此在更换光刻胶的储液瓶后，需进行手动排除位于管路中的气体的操作，以降低光刻胶的溶剂中的气体溶解率。采用该手动排除气体的操作，风险较高，从而容易产生缺陷，且增加了维护周期，降低了设备的利用率。

因此，设计一种新型的供液系统，以有效降低供液系统中液体中的气体溶解率、实现自动补液和自动排除管路中的气体，减少气泡的生成，以有效提高制程稳定性，提高产品质量，减少液体消耗量，降低维护成本，提高设备利用率，实属必要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种供液系统，用于解决现有技术中，供液系统所提供的液体含有大量气泡及需手动排除气泡所产生的上述一系列问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种供液系统，所述供液系统包括储液装置及液体处理装置，其中，所述液体处理装置包括：

伸缩部件，所述伸缩部件与所述储液装置相连通；

驱动部件，所述驱动部件与所述伸缩部件相连接，通过所述驱动部件驱动所述伸缩部件运行。

可选的，所述供液系统还包括气泡检测装置。

可选的，所述供液系统还包括液位检测装置。

可选的，所述液位检测装置的个数包括2个～5个。

可选的，所述伸缩部件包括波纹管，所述波纹管包括塑料波纹管。

可选的，所述驱动部件包括电力驱动部件、液压驱动部件及气力驱动部件中的一种或组合。

可选的，所述驱动部件的运行方式包括自动式及手动式中的一种或组合。

可选的，所述供液系统还包括报警装置。

可选的，所述供液系统还包括回收装置。

可选的，所述供液系统包括光刻胶供液系统。

如上所述，本实用新型的供液系统，通过包括伸缩部件及驱动部件的液体处理装置，采用负压真空吸取方式，可降低伸缩部件中液体的气体溶解率，减少气泡的生成，且可实现自动补液功能；从而有效提高制程稳定性，提高产品质量，减少液体消耗量，降低维护成本，提高设备利用率。

附图说明

图1显示为本实用新型中的供液系统的结构示意图。