[实用新型]电子设备和电子设备显示器有效

专利信息
申请号: 201920471547.8 申请日: 2019-04-09
公开(公告)号: CN209728720U 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: M·Y·亚兹丹杜斯特;G·戈兹尼 申请(专利权)人: 苹果公司
主分类号: G06F3/042 分类号: G06F3/042;G06K9/00
代理公司: 11256 北京市金杜律师事务所 代理人: 王茂华;张宁<国际申请>=<国际公布>=
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 像素区域 光学成像阵列 显示器 电子设备 像素 电子设备显示器 活动显示 不透明 背衬 光透射 反射 触摸 穿过 配置 改进
【权利要求书】:

1.一种电子设备,其特征在于,包括:

显示器,所述显示器限定活动显示区,所述活动显示区包括:

第一像素区域,所述第一像素区域具有第一像素密度;和

第二像素区域,所述第二像素区域具有第二像素密度;

不透明背衬,所述不透明背衬位于所述显示器下方,并且限定所述第二像素区域下方的孔;和

光学成像阵列,所述光学成像阵列位于所述孔下方,所述光学成像阵列被配置为接收从设置在所述第二像素区域上方的触摸输入反射的光,所述光透射穿过所述第二像素区域的两个或更多个像素之间的所述显示器。

2.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,还包括透明基板,

所述透明基板定位在所述活动显示区上方并且被配置为接收所述触摸输入。

3.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,所述第二像素密度比所述第一像素密度小至少两倍。

4.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,所述第一像素密度与第一子像素分布图案相关联,并且所述第二像素密度与第二子像素分布图案相关联。

5.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,所述第一像素区域和所述第二像素区域的像素由有机发光二极管形成。

6.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,包括定位在由所述不透明背衬和所述光学成像阵列限定的所述孔之间的透镜,所述透镜被配置为将所接收的反射光聚焦到所述光学成像阵列上。

7.根据权利要求6所述的电子设备,其特征在于,所述光学成像阵列包括互补金属氧化物半导体成像传感器。

8.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,所述孔为第一孔,

所述第一孔为限定在所述不透明背衬中的孔阵列的构件。

9.根据权利要求8所述的电子设备,其特征在于,所述孔阵列中的每个孔为针孔透镜,所述针孔透镜能够操作以将所接收的反射光的单独部分过滤到所述光学成像阵列的相应单独部分上。

10.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,还包括定位在所述光学成像阵列上方的窄视野滤光器。

11.根据权利要求10所述的电子设备,其特征在于,还包括定位在所述光学成像阵列上方的红外截止滤光器。

12.根据权利要求11所述的电子设备,其特征在于,所述红外截止滤光器定位在所述窄视场滤光器上方。

13.根据权利要求10所述的电子设备,其特征在于,所述窄视场滤光器使用光学透明的粘合剂粘附到所述孔内的所述显示器。

14.一种电子设备,其特征在于,包括:

外壳;

透明基板,所述透明基板限定所述外壳的外表面;

显示器,所述显示器在所述外壳内且在所述透明基板下方,从而限定具有高光学透射率区域和低光学透射率区域的活动显示区;

背衬,所述背衬耦接到所述显示器并且限定所述高光学透射率区域下方的孔;和

光学成像阵列,所述光学成像阵列光学耦接到所述孔内的所述高透射率区域,所述光学成像阵列被配置为接收透射穿过所述透明基板和所述显示器的所述高光学透射率区域的光。

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