[实用新型]一种有机发光二极管清洗设备

权利要求书

1.一种有机发光二极管清洗设备，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)上部设置有可左右移动的滑块(2)，所述滑块(2)设置有可上下移动的输送杆(3)，所述输送杆(3)底部固定有微孔吸附平板(4)用于吸附有机发光二极管待清洗部件，所述机架中部设置有超声波清洗槽(5)用于清洗有机发光二极管待清洗部件，所述超声波清洗槽(5)位于微孔吸附平板(4)移动路径上；

所述微孔吸附平板(4)包括中空的底板(6)，所述底板(6)底面覆盖有橡胶层(7)，所述橡胶层(7)底面固定有高平面度的金属板(8)，所述底板(6)底部阵列有若干第一吸附微孔(9)，所述第一吸附微孔(9)贯穿橡胶层(7)、金属板(8)与底板(6)内腔相通，所述第一吸附微孔(9)所围成的区域面积小于有机发光二极管待清洗部件的面积。

2.根据权利要求1所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述超声波清洗槽(5)内设置有第一微孔吸附平台(10)，所述第一微孔吸附平台(10)为顶面具有高平面度的中空金属平板、且阵列有若干与金属平板内腔相通的第二吸附微孔(11)，所述第二吸附微孔(11)所围成的区域面积小于有机发光二极管待清洗部件的面积；所述超声波清洗槽(5)内还固定有液面控制部件(12)，所述液面控制部件(12)用于控制超声波清洗槽(5)液面高于或低于第一微孔吸附平台(10)。

3.根据权利要求2所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述液面控制部件(12)为固定在超声波清洗槽(5)槽壁的气囊。

4.根据权利要求1所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述超声波清洗槽(5)一侧还设有风干槽(13)，所述风干槽(13)位于微孔吸附平板(4)移动路径上，所述风干槽(13)侧壁固定有第一风干头(14)，所述第一风干头(14)通过与风干气储罐(15)相连。

5.根据权利要求4所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述第一风干头(14)设有向上倾斜的出气微缝。

6.根据权利要求4所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述风干槽(13)内还设有有第二微孔吸附平台(16)，所述第二微孔吸附平台(16)为顶面具有高平面度的中空金属平板、且阵列有与金属平板内腔相通的若干第三吸附微孔(17)，所述第三吸附微孔(17)所围成的区域面积小于有机发光二极管待清洗部件的面积；所述风干槽(13)侧壁还固定有第二风干头(18)，所述第二风干头(18)与风干气储罐(15)相连、且斜向第二微孔吸附平台(16)出风。

7.根据权利要求6所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述第二风干头(18)由出气微缝出风。

8.根据权利要求4所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述第一风干头(14)与风干气储罐(15)之间还连接有加热器(19)。

9.根据权利要求6所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述第二风干头(14)与风干气储罐(15)之间还连接有加热器(19)。

10.根据权利要求8或9所述的有机发光二极管清洗设备，其特征在于：所述加热器(19)为设置在管道内的金属丝加热器。